Gebraucht SEMITOOL 870F #151768 zu verkaufen

SEMITOOL 870F
Hersteller
SEMITOOL
Modell
870F
ID: 151768
Wafergröße: Up to 6"
Dual stack spin rinse dryer, up to 6".
SEMITOOL 870F ist eine Photoresist-Ausrüstung mit hohem Durchsatz und Zeiteffizienz für hochpräzise Photolithographieverfahren. Es ist in der Lage, große Substrate zu handhaben und bietet qualitativ hochwertige Ergebnisse für die anspruchsvollsten Photolithographie-Anwendungen. Das System ist modular aufgebaut, um eine vielseitigere Nutzung des Werkzeugs zu ermöglichen. Einer der Hauptvorteile dieser Einheit ist der minimale Wartungsaufwand. Die Maschine ist für den Betrieb in einem vollautomatischen Modus mit minimalen Rüstzeiten und ohne manuellen Eingriff konzipiert, was einen erhöhten Durchsatz und Kosteneinsparungen ermöglicht. 870F Werkzeug ist mit einer Schiene mit großem Durchmesser ausgestattet, die einen mäanderförmigen Gleisweg mit mehreren Haltestellen aufweist. Die Spur wurde entwickelt, um die Substrattransportzeit zu minimieren und gleichzeitig eine starke Beschleunigung und Verzögerung zu gewährleisten. Ein leistungsoptimierter Motor sorgt für genaue und wiederholbare Bewegungen beim Be- und Entladen. Die Bühne soll eine präzise Positionierung von Ausrichtungs- und Belichtungsstellen mit einer Wegstrecke von bis zu 600 mm ermöglichen. Das Asset verfügt über eine intuitive Benutzeroberfläche zur einfachen Anpassung von Rezepten. Das Modell bietet eine Reihe fortschrittlicher Funktionen wie Substraterkennung, Belichtungssteuerung, Plattenbelastung und mehr. Die integrierte Mustererkennungssoftware ermöglicht eine schnelle Einrichtung und Steuerung sehr komplexer „Grid“ -Belichtungen. SEMITOOL 870F Geräte bieten auch einen integrierten Photolackprozessor. Mit dieser Funktion können Benutzer die resistbeschichteten Substrate automatisch reinigen und trocknen, bevor sie in das System geladen werden. Dies hilft, verschwendete Fotolackmaterialien zu reduzieren, den Durchsatz und die Genauigkeit zu erhöhen und Kosteneinsparungen zu maximieren. Das Gerät wurde auch entwickelt, um ein schnelles Be- und Entladen von Substraten mit einer maximalen Ladezeit von 0,3 sec pro Substrat zu ermöglichen. Es verfügt über eine ergonomische Mensch-Maschine-Schnittstelle für verbesserten Bedienkomfort. Darüber hinaus gewährleistet die integrierte Prozessüberwachungssoftware eine gleichbleibende und zuverlässige Performance über alle Läufe hinweg. Insgesamt ist 870F eine leistungsstarke und hochentwickelte Photolackmaschine, die sich perfekt für hochpräzise Photolithographieverfahren eignet. Es bietet Zeiteffizienz und erhöhten Durchsatz, erweiterte Funktionen und minimale Wartungsanforderungen für maximale Kosteneinsparungen.
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