Gebraucht SEMITOOL 870F #293725516 zu verkaufen
URL erfolgreich kopiert!
Tippen Sie auf Zoom
ID: 293725516
Wafergröße: 6"
Weinlese: 2000
Spin Rinse Dryer (SRD), 6"
(2) Power Supply Control (PSC)-102 Controllers
Double stack
Chamber, 6"
Transformer: 230 VAC - 110 VAC
Rotor with (4) Bolts
Power supply: 230 VAC+N+PE, 50 Hz, 16 A
2000 vintage.
SEMITOOL 870F ist eine Photoresist-Ausrüstung zur Dünnschichtabscheidungsverarbeitung in der Halbleiterherstellung. Es bietet außergewöhnliche Prozesssteuerungen mit einzigartigen Automatisierungsfunktionen. Das System ist vielseitig einsetzbar und verfügt über verschiedene programmierbare Module, um eine breite Palette von anpassbaren Prozessen zu ermöglichen. 870F ist ideal für eine Vielzahl von Photoresist-Anforderungen, einschließlich SiON etch, PR-Entfernung, Koplanarisierung und schützende Überschichtabscheidung. SEMITOOL 870F bietet robuste Prozesssteuerungsfunktionen mit einer breiten Palette von Tool-to-Tool, Film-to-Film und Batch-to-Batch-Variation Elimination. Es ist auch hoch programmierbar, ermöglicht präzise Ablagerungsmuster und anpassbare Baugruppen für verschiedene Mengen von Belichtungszeit und Konzentrationen. 870F basiert auf der Modular Platform Interface (MPI) -Architektur und prädiktiven Modellierungstechniken und bietet verbesserte Überwachung und Diagnose, strengere Vorhersagen und schnellere Prozessoptimierung. Das Gerät verfügt über ein fortschrittliches Mehrkammerdesign mit seiner vielseitigsten Bearbeitungskammer, ausgestattet mit einem Kopfduschkopf-Abscheidekopf, einer mechanischen armbasierten Auftragsmaschine und zwei unabhängigen Hochfrequenzsubstratheizquellen. Es ist sowohl Gas und Flüssigkeit kompatibel, so dass die Abscheidung einer Vielzahl von Materialien wie Oxid, Nitrid und Metalle auf eine Vielzahl von Probengröße und Formen. SEMITOOL 870F verfügt auch über einen integrierten Wafer-Fingerabdruckleser, der es ermöglicht, die Wafergeometrie, den Substrattyp und die Materialzusammensetzung für bestimmte Wafer zu erkennen. Dies ermöglicht einen zuverlässigeren, effizienteren und präziseren Prozess. Sein hochauflösendes Sichtwerkzeug ermöglicht eine schnelle, präzise Positionierung des Substrats, um eine genaue und wiederholbare Verarbeitung zu gewährleisten. Es bietet auch schnelle Rüstzeit, effiziente Substrathandhabung und Matching und einfache Wartung. Die Anlage kann mit minimaler Transferzeit in jede vorhandene Prozesskammer integriert und die gesamte Kammer ohne erneute Qualifizierung bewegt werden. 870F ist sowohl mit SMIF- als auch mit FOUP-Pods (Front Opening Unified Pods) kompatibel, so dass es problemlos in eine Vielzahl von Reinraumumgebungen integriert werden kann. Mit seiner hochpräzisen Prozesssteuerung, dem integrierten Vision-Modell und der schnellen Rüstzeit ist SEMITOOL 870F Photoresist eine ideale Lösung für eine Vielzahl von Photoresist-Anforderungen in einer Halbleiterherstellungsumgebung.
Es liegen noch keine Bewertungen vor