Gebraucht SEMITOOL 880S #38555 zu verkaufen

SEMITOOL 880S ist ein Photoresist- und Dünnschichtabscheidungssystem für die Halbleiterwaferbearbeitung und maskenlose Lithographie. Es kombiniert einen hocheffizienten Resistspender und Maskenausrichter, eine leistungsstarke Dünnschichtverdampfungsquelle, eine Quarzkristall-Mikrowaage (QCM) und ein integriertes Gasmanagement zu einer einfach zu bedienenden, kompakten Plattform. SEMITOOL 880 S ist die Spitze des Linienmodells der Baureihe 880, perfekt für den Einsatz in der Halbleiter- und Opto-Elektronikindustrie. 880-S können Photoresists mit Genauigkeit und Wiederholbarkeit auf flachen und komplexen Oberflächen abgeben, ausrichten und anwenden. Die hocheffiziente und robuste Dosiertechnik ermöglicht zuverlässige Dosiermuster auch bei hohen Geschwindigkeiten und mit höchster Genauigkeit. 880 S ist in der Lage, schwer erreichbare Substratbereiche mit Leichtigkeit zu handhaben. Ein zweistufiger Maskenausrichter sorgt für eine genaue Ausrichtung des Resistmusters auf die Substratoberfläche. Die Dünnschichtabscheidung wird durch eine erweiterte Verdampfungsquelle ermöglicht, die durch globale programmierbare Parameter wie Druck, Temperatur, Abscheidungsrate und Gasreinheit gesteuert wird. Die Quelle hat eine geringe thermische Masse, so dass die effiziente Lieferung von dünnen Filmen, die Gleichmäßigkeit, gleichmäßige Dicke und verbesserte Filmeigenschaften bieten. Zusätzlich bietet eine integrierte Quarz-Kristall-Mikrowaage (QCM) eine Echtzeitkontrolle der Abscheiderate. SEMITOOL 880-S verfügt über ein fortschrittliches Gasmanagementsystem, das es ermöglicht, voreingestellte Gas- und Sauerstoffgemische schnell im Kreislauf zu führen und so den Herstellungsprozess zu optimieren. Die Vorrichtung arbeitet ruhig, reduziert Verschmutzungen und erhöht die Prozessstabilität. 880S ist auch hochkonfigurierbar und kann zur integrierten Bearbeitung auf bestehende Bearbeitungswerkzeuge montiert werden. Insgesamt ist SEMITOOL 880S ein unglaublich effizientes, zuverlässiges und kostengünstiges Photoresist- und Dünnschichtabscheidungssystem. Es ist perfekt für den Einsatz in der Halbleiter-, Optoelektronik- und Forschungsindustrie.