Gebraucht SEMITOOL 880S #9163494 zu verkaufen

SEMITOOL 880S ist eine Photoresist-Ausrüstung, die eine robuste, zuverlässige Photolithographie-Verarbeitung für eine Vielzahl von Anwendungen ermöglicht. Das System ist in der Lage, sowohl ein- als auch zweiseitige Verfahren zur Dünnschichtabscheidung auf Substraten und/oder Vorrichtungen durchzuführen. Die Einheit besteht aus zwei verschiedenen Abschnitten - Vorbacken und Exposition. Der Vorbackabschnitt der Maschine besteht aus einer SEMITOOL 880 S Hot Plate Unit, die eine Reihe von Temperatureinstellungen für das Vorbacken von Wafern vor dem Aufbringen von Photoresist bietet. Darüber hinaus ist das Werkzeug mit mehreren Lüftereinstellungen ausgelegt, so dass Benutzer die Konvektionskraft in der Vorbackkammer für einheitliche Wafertemperaturprofile einstellen können. Der Vorbackprozess wird weiter durch die vakuumbasierten Kühlventilatoren unterstützt, die helfen, Kanteneffekte auf den Wafer zu reduzieren. Der Belichtungsbereich besteht aus einer 880-S Belichtungseinheit, die mit einer 150W DUV (Deep Ultraviolet) -Lampe ausgestattet ist. Dieses Asset wird verwendet, um Photolackschichten auf Wafern zu belichten. Dieser Prozess kann sowohl im einseitigen als auch im doppelseitigen Modus konfiguriert werden. Für einseitige Belichtung ist das Modell in der Lage, Substrate mit einem Durchmesser von bis zu 8 Zoll und einer Dicke von bis zu 20 mm zu verarbeiten. Für die doppelseitige Verarbeitung ist das Gerät in der Lage, Wafer bis zu 4 Zoll Durchmesser und bis zu 10 mm dick zu verarbeiten. Die Gesamtleistung des Systems wird durch verschiedene Sicherheitssysteme, die in die Konstruktion des Geräts integriert wurden, weiter verbessert. Dazu gehören automatische Abschaltfunktionen für dielektrische und Metallmasken sowie eine ausfallsichere Verriegelungseinheit. Dadurch wird sichergestellt, dass die Photolackmaschine 880 S innerhalb sicherer Parameter arbeitet und Geräteschäden und mögliche Schäden für Benutzer vermeidet. Abschließend ist 880S ein fortschrittliches Photolithographie-Tool, das präzise und qualitativ hochwertige Ergebnisse für ein- und zweiseitige Prozesse liefert. Mit einer umfangreichen Palette von Funktionen und Sicherheitssystemen ist diese Ressource eine zuverlässige und effiziente Wahl für jede Photolithographie-Anwendung.