Gebraucht SEMITOOL 880S #9774 zu verkaufen

SEMITOOL 880S Photoresist Equipment bietet das höchste Maß an Präzision und Genauigkeit in der Branche, entwickelt für die Beschichtung, Belichtung und Entfernung von Photoresist in sowohl strukturierten als auch planaren Bedingungen. Es ist ein vollautomatisiertes Zweisäulensystem, das bis zu acht Kassettenlasten unterstützt. SEMITOOL 880 S bietet sowohl chemische Lagertanks als auch Wafer-Resurfacing-Systeme, die die Wiederholbarkeit des Prozesses und die Zuverlässigkeit der Einheit erhöhen. 880-S photowidersetzen Sich Maschine besteht aus einer hohen Temperatur, Hochdruckthermalüberzugstation, einem widerstehen Container und einem umweltsmäßig kontrollierten Arbeitsplatz. Die thermische Beschichtungsstation verwendet eine einzigartige Gasmischtechnik, um Photolack gleichmäßig über eine große Fläche von entweder einschichtigen oder mehrschichtigen Materialien aufzutragen. Der Resistbehälter ermöglicht eine genaue Platzierung und Retention von Photoresist und liefert hochpräzise automatisierte Messung für eine genaue Dosierung von Photoresist auf Wafern. Die Umweltkammer verleiht dem Prozess Gleichmäßigkeit und Stabilität und ist mit einem leistungsstarken Klimatisierungswerkzeug zur vollständigen Umweltkontrolle ausgestattet. 880 S enthält auch hochmoderne Bildgebungssoftware, die eine schnelle und genaue Belichtung von Photoresist ermöglicht. Die Software ermöglicht die Ausrichtung der Maske auf das Ziel und eine optimierte Steuerung des Belichtungsprozesses inklusive Auswahl der Belichtungsbedingungen und Parameter. Das Asset verfügt außerdem über robuste und zuverlässige Nachback-, Band- und Entwicklermodule, die eine genaue und konsistente Verarbeitung von Photoresist ermöglichen. Zusammen bieten diese Merkmale von 880S eine überlegene Genauigkeit und Wiederholbarkeit und reduzieren gleichzeitig Abfall und Zykluszeit. Dieses Modell eignet sich ideal für photolithographische Anwendungen sowohl in F&E als auch in Serienanlagen. Es kann große Skala Widerstände über einen breiten Temperaturbereich mit hohem chemischen Widerstand behandeln, um ausgezeichnete Prozessergebnisse zu gewährleisten.