Gebraucht SEMITOOL 906-00119 #9160086 zu verkaufen

SEMITOOL 906-00119 ist ein Photolacksystem zur Verarbeitung von Photomasken und anderen lithographischen Materialien. Es ist eine vollautomatische Ausrüstung, die eine Vielzahl von fotooptischen Übertragungen, chemischer Verarbeitung und damit verbundenen Vor- und Nachbearbeitungsfunktionen verwendet, um eine hochwertige Fotomaske und ein Werkstück zu liefern. Im Kern verwendet 906-00119 einen automatisierten Linearscanner zur Photomasken- oder Waferherstellung. Der Scanner ist in der Lage, eine Fotomaske oder ein Werkstück entlang einer linearen Stufe zu bewegen und einer UV-Lichtquelle hoher Intensität auszusetzen. Mit diesem Verfahren werden Photolackschichten auf der Photomaske oder dem Wafer belichtet. Der belichtete Photoresist wird dann in einem naßchemischen Verfahren zur Bildung des gewünschten Photomasken- oder Wafermusters entwickelt. Neben der linearen Stufe umfasst das Photolacksystem SEMITOOL 906-00119 auch eine Vorverarbeitungskammer zum Entwickeln und Reflow in Situationen, in denen Wafer vor der Belichtung vorbereitet werden müssen. Die Vorverarbeitungskammer verwendet auch Hochdruckluftstrahlimpulse, die für präzise Druckniveaus programmiert sind, und 0,2 Mikron Impulse für ein effektives Ätzen des Photolacks auf der Waferoberfläche. Nach Abschluss der Belichtungs-, Entwicklungs- und Ätzprozesse erfolgt die Nachbearbeitung in der Einheit 906-00119. Dabei werden die Photomasken oder Wafer gereinigt, gebacken und ausgehärtet, Staub entfernt und Schutzschichten aufgetragen. Durch diese Nachbearbeitungsschritte wird sichergestellt, daß die belichteten Photolackschichten mit einer minimalen Restmenge belassen werden. Abschließend ist SEMITOOL 906-00119 eine hochentwickelte und einzigartige Fotolackbearbeitungsmaschine, die die Erstellung hochwertiger Fotomasken und Werkstücke für eine Vielzahl von Anwendungen ermöglicht. Die automatisierten Funktionen des linearen Scanners, der Vorverarbeitungskammer und der Nachbearbeitung bieten eine effiziente und zuverlässige Lösung für die Verarbeitung von Photomasken und anderen lithographischen Materialien.