Gebraucht SEMITOOL CD-E1/750 #159333 zu verkaufen

SEMITOOL CD-E1/750 ist eine leistungsfähige Photoresist-Ausrüstung, die entwickelt wurde, um die Asche-, Spinn- und Trocknungszyklen bei der Herstellung von Photomasken zu optimieren. Sie folgt den strengen Spezifikationen und Anforderungen fortschrittlicher Halbleiterprozesse. Das System verfügt über mehrere Stufen der automatisierten Prozesse wie atmosphärische Druckkammer (APC) Aschen, chemo-mechanische Planarisierung (CMP) Polieren und Spin-coat-Abscheidung. Die Photoresist-Einheit verfügt über fortschrittliche Steuerungstechnologie, einschließlich vorprogrammiertem Kassettenradfahren und effizienter Rezepturentwicklung. Die Atmosphäre innerhalb der Kammer wird ständig mit Stickstoff gespült, wodurch eine Verunreinigung durch Sauerstoff oder Wasser vermieden wird. Die Maschine ist mit fortschrittlichen ESD-Schutzfunktionen (Electrostatic Discharge) ausgestattet und kann sowohl in Reinraumumgebungen der Klasse 1000 als auch der Klasse 10.000 verwendet werden, um die gesamte elektrostatische Sicherheit zu gewährleisten. SEMITOOL CD-E1/750 Photoresist-Tool ist entworfen, um überlegene Leistung, ausgezeichnete Homogenität und qualitativ hochwertige Ergebnisse zu geben. Es ist in der Lage, eine hohe Abscheidungsgenauigkeit (genau auf das Niveau von Nanometern) über das gesamte Substrat bereitzustellen. Darüber hinaus bietet es eine hohe Durchsatzrate und schnelle Ascheleistung. Zudem hat sich gezeigt, dass der chemische Verbrauch, der Abfall und die Prozesszeit stark reduziert werden. Darüber hinaus bietet das Modell eine benutzerfreundliche Oberfläche, die eine genaue Überwachung, Steuerung und Berichterstattung über alle Prozessschritte ermöglicht. Die Datenerfassungs- und Analysefunktionen ermöglichen eine genaue Berücksichtigung der Ergebnisse jeder Charge und die einstellbaren Klemmen und Spin-Stops ermöglichen die einfache Anpassung und Anpassung jedes Prozesses. Insgesamt ist SEMITOOL CD-E1/750 Photoresist Equipment eine zuverlässige, hocheffiziente und benutzerfreundliche Wahl für jeden Halbleiterherstellungsprozess. Es ist auch auf alle strengen Standards ausgelegt und ermöglicht eine optimale Asche-, Spinn- und Trocknungsleistung bei der Herstellung von Photomasken.