Gebraucht SEMITOOL CP04MNSPD0801 #9158970 zu verkaufen

SEMITOOL CP04MNSPD0801 ist eine photoresist Coater/Developer Ausrüstung, die für den Maskenherstellungsprozess in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Das System besteht aus einer Einzel-Waferkammer zur Bearbeitung von 200mm-Wafern, mehreren Düsen zur präzisen Lautstärkeregelung, integrierten Mikroprozessorsteuerungen und einer intuitiven Benutzeroberfläche. SEMITOOL CP 04 MNSPD 0801 verwendet bis zu 6 Prozessmodule zur Verwaltung von Photoresist-Entwicklungs-, Adhäsions-, Stripp- und Trocknungsprozessen. Sein Wafer-Handhabungsmechanismus ist robust und zuverlässig, so dass der Bediener das Be- und Entladen von Wafern schnell und genau einstellen kann. Die Kammer der CP04MNSPD0801 ist in der Lage, einen Vakuumdruck bis zu 1 Torr und eine Temperatur bis zu 65 Grad Celsius. Eine integrierte Vakuumeinheit hält den erforderlichen Druck für eine optimale Resistbeschichtung oder -entwicklung aufrecht. Der integrierte Mikroprozessor dient zur Steuerung der Prozessmodule und passt die Abscheide- und Entwicklungsparameter für jeden einzelnen Wafer genau an. Der Druck, die Temperatur und die mechanischen Komponenten der Kammer werden überwacht, um sicherzustellen, dass sie während der gesamten Bearbeitung jedes Wafers innerhalb des angegebenen Bereichs bleiben. Die Düsen des CP 04 MNSPD 0801 sind für eine präzise Volumensteuerung bei der Beschichtung und Entwicklung von Photolack ausgelegt. Durch sorgfältiges Einstellen der Düsen können auf der Waferoberfläche Fotolackfilme konstanter Dicke und Gleichmäßigkeit erzeugt werden. Die integrierte Benutzeroberfläche ermöglicht es dem Bediener, einfach und schnell die gewünschten Parameter für die Beschichtung und Entwicklung eines bestimmten Wafers auszuwählen. Dadurch wird sichergestellt, dass jeder Wafer mit der gleichen Gleichmäßigkeit und Qualität beschichtet und entwickelt wird. SEMITOOL CP04MNSPD0801 ist eine fortschrittliche Photoresist Coater/Developer Maschine, die für schnelle und genaue Resistbeschichtung und Entwicklung auf mehreren Wafern entwickelt wurde. Seine robuste und zuverlässige Kammerkonstruktion ermöglicht eine gleichmäßige Abscheidung und präzise Steuerung der Prozessmodule. Der integrierte Mikroprozessor und die Benutzeroberfläche sorgen dafür, dass der Bediener die gewünschten Parameter des Waferprozesses zuverlässig anpassen kann. Mit seiner Fähigkeit, optimalen Vakuumdruck und Temperatur zu halten, ist SEMITOOL CP 04 MNSPD 0801 in der Lage, eine zuverlässige und wiederholbare Waferbearbeitung für die hochvolumige Photoresist-Beschichtung und -Entwicklung zu gewährleisten.