Gebraucht SEMITOOL Equinox E0212 #70448 zu verkaufen

SEMITOOL Equinox E0212 ist ein Photoresist-Gerät, das zur Herstellung integrierter Schaltungen (ICs) verwendet wird. Es ist ein voll funktionsfähiges System, das bis zu 1,2 µm Resist-Schritt und eine Merkmalsgröße von bis zu 12 m unterstützen kann. Diese Einheit ist entworfen, um eine Vielzahl von Photoresist Chemie einschließlich positiven Photoresist, negativen Photoresist, lösungsmittelbeständig und Deep-UV-Photoresist zu verarbeiten. Equinox E0212 ist mit einem 5-Achsen-Beschichtungs-/Entwicklerkopf ausgestattet, der eine präzise, gleichmäßige Resistbeschichtung und -entwicklung ermöglicht. Die Maschine umfasst einen zweizonigen, ummantelten Edelstahltank zur Resistbearbeitung und ein Batch-Level-Werkzeug für die restlichen drei Tanks. SEMITOOL Equinox E0212 ist mit fortschrittlicher Robotertechnologie integriert und ist somit in der Lage, große Substrate bis 318 mm x 318 mm zu handhaben. Die Anlage verwendet elektromechanische Waferhebe- und automatische Nivelliertechnologie, um die Gleichmäßigkeit der Substratbelastung zu gewährleisten und liefert Produktionsausbeute bis zu 12 m Linienbreite. Neben seinen Funktionen wurde Equinox E0212 auch entwickelt, um den Produktionsdurchsatz zu verbessern. Es unterstützt eine Vielzahl von Hochgeschwindigkeitsprozessen wie Inline-Rühren, elektromechanische Kammerdeckel und Geschwindigkeitsregelungssysteme sowie Spülsteuerungsmodell, um Resistverluste während der Schrittverarbeitung zu minimieren. Dieses Gerät umfasst auch intelligente Diagnosefähigkeit für Kalibrierungen und Maschinenzustandsüberwachung. Zur Gewährleistung der Anwendersicherheit ist SEMITOOL Equinox E0212 mit Sicherheits- und Überwachungssystemen wie Reinraumüberwachung, Laserbruch und einem Gefahrstoffmanagementsystem ausgestattet. Zu dieser Einheit gehört auch eine Not-Aus-Maschine, die in Gefahrensituationen oder Werkzeugstörungen aktiviert wird. Insgesamt ist Equinox E0212 ein voll ausgestattetes Photoresist-Asset, das entwickelt wurde, um eine Vielzahl von Photoresist-Chemien mit Präzision und Effizienz zu verarbeiten. Seine fortschrittlichen Eigenschaften, wie der 5-Achsen-Beschichtungs-/Entwicklerkopf und das elektromechanische Waferheben, ermöglichen es, Substrate mit ausgereiften Produktionserträgen zu verarbeiten. Es ist auch unter Berücksichtigung der Sicherheit konzipiert und umfasst mehrere Sicherheits- und Überwachungssysteme.