Gebraucht SEMITOOL Equinox #293590462 zu verkaufen

SEMITOOL Equinox ist eine Photolackverarbeitungsanlage zur Herstellung von hochpräzisen mikroelektronischen Bauteilen. Es verwendet ein modernes Laser-Scanning-System, um Fotolackmasken auf Produktbasis zu erstellen. Die Einheit ermöglicht die selektive Strukturierung des abgeschiedenen Photolacks auf Substraten wie Silizium, Metallen und anderen Halbleitermaterialien, wodurch Feinliniengeometrien von 0,5 bis 25 µm erzeugt werden können. Equinox verwendet proprietäre Laserlithographie-Technologie. Die Laserwellenlänge und der gewählte Photolacktyp können angepasst werden, um die Linienbreitenvariation während des Prozesses zu minimieren und gleichzeitig die Produktkonsistenz und -genauigkeit zu gewährleisten. Die Strukturierung auf Substraten erfolgt mit einem Laser mit 13,5 nm Durchmesser, der eine feine Photoresistauflösung ergibt. Die Laserabtastoptik registriert dann ihre Position und es wird ein Muster gezeichnet. Das Muster kann mit dieser Maschine in X-, Y- oder Z-Achsenrichtung bewegt werden. SEMITOOL Equinox bietet eine kostengünstige Lösung für den Photolithographie-Prozess bei der Herstellung von hochpräzisen mikroelektronischen Bauteilen. Seine Zuverlässigkeit und Wiederholbarkeit machen es zu einem unschätzbaren Werkzeug in der Mikroelektronik-Industrie. Der Benutzer kann leicht die gewünschten Parameter eingeben und der Laserscanner wird das Design mit minimaler Zeit genau wiedergeben. Es verfügt auch über eine thermische Steuerungstechnologie, die die Variation der Abscheidung des Photolacks reduziert, was zu einer sehr hohen Verdichtung der Oberfläche führt. Für eine verbesserte Oberflächenplanarität kann das Equinox-Werkzeug auch für das Nachdepositionsätzen verwendet werden. Dieser Prozess hilft bei der Planarisierung, indem er eine flotte, gleichmäßige Resistschicht bereitstellt und den Musterkollaps beseitigt. Schließlich ist die Anlage mit mehreren Photoresist-Profilmonitoren ausgestattet und Kontrollmöglichkeiten sorgen dafür, dass die Viskosität des Resists während und nach dem Prozess für ein optimales Endprodukt erhalten bleibt. Alles in allem ist SEMITOOL Equinox eine ausgezeichnete Wahl für die Erstellung von Fotolackmasken und -mustern in der Mikroelektronikindustrie. Seine produktbasierte Maskierung, variierende Modellparameter und hochauflösende Fähigkeiten machen es zu einem optimalen Werkzeug für viele Fertigungsprozesse.