Gebraucht SEMITOOL Equinox #293659794 zu verkaufen
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ID: 293659794
Weinlese: 2007
Electroplating system
Package: Plastic wrap
Dimensions: (L)1190 mm x (W) 775 mm x (H) 1235 mm
Dry film dimension:
Film width: 150~640 m/m
Membrane diameter: ≤ 4250 mm
Feeding section:
31.5 m/m, P= 76 m/m
Roller: Aluminium
Size (cm): 190 x 160 x 192
Temperature control: PID type S.S.R drive
Manual feeder
Temperature range: 120°C
Power supply: AC 220 V 1φ, 50/60 Hz, 3.5kVA
2007 vintage.
SEMITOOL Equinox ist eine Photoresist-Ausrüstung für fortschrittliche Lithographieverfahren. Equinox wurde speziell für Mikroherstellungsprozesse entwickelt und ist ein hochmodernes System, mit dem hochpräzise Halbleiterbauelemente hergestellt werden können. SEMITOOL Equinox verfügt über die neueste Technologie, einschließlich einer benutzerfreundlichen Touchscreen-Oberfläche mit einer leicht verständlichen Menüeinheit. Diese Maschine ist in der Lage, schnelle, automatisierte Verarbeitung, so dass schnellere Fertigungszeiten bei gleichzeitiger Aufrechterhaltung einer Ultraclean-Umgebung für genaue Lithographieergebnisse. Equinox bietet auch eine Reihe von Möglichkeiten wie Substrat-Vorverarbeitung, doppelseitige Beschichtung, Kleben, Resist und Boden antireflektierende Beschichtung, Spin-coat Verarbeitung, weiche Backen, Spin-Entwicklung, Ätz-, Strippen und CMP (Chemical Mechanical Polishing). Das Fotolackwerkzeug ist hocheffizient und erfordert eine minimale Wartung. Die kostengünstige Ausstattung und die effizienten Konstruktionsstrukturen sorgen dafür, dass die Herstellungskosten niedrig bleiben. Darüber hinaus soll die Anlage eine schnelle Bearbeitung und Laborautomatisierung ermöglichen, was vor allem für kleinere Produktionschargen von Vorteil ist. SEMITOOL Equinox Photoresist-Modell unterstützt auch eine breite Palette von Substraten, einschließlich Metall, Dünnfilm, Dickfilm, Polyimid und organischen Substraten. Darüber hinaus werden die Resist- und Substratmaterialien in einer integrierten Lagereinrichtung aufbewahrt, wodurch der Zugriff auf diese Materialien einfach und bequem ist. Neben Substrat-, Resist- und Reinigungsfunktionen verfügt Equinox auch über eine automatische Echtzeit-Ausrichtungskamera, die die Ausrichtung der Ober- oder Unterseite je nach Waferform oder Substrattyp schnell anpassen kann. Dies wird durch die Kombination einer optischen Rückseitenbeleuchtungskamera mit ihren fortschrittlichen Software-Algorithmen erreicht. Insgesamt ist das SEMITOOL Equinox Photoresist-System eine innovative und fortschrittliche Lithographieeinheit, die die Mikroherstellungsprozesse von Halbleiterbauelementen unterstützt. Mit seinen spezialisierten Funktionen, Benutzerfreundlichkeit und Wirtschaftlichkeit kann diese Maschine die Produktion hochpräziser Komponenten und Produkte erleichtern.
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