Gebraucht SEMITOOL Equinox #293797045 zu verkaufen
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ID: 293797045
Wafergröße: 6"
Weinlese: 2010
Electroplating system, 6"
(2) Chambers
Stainless steel cabinet
TEFLON Chemical process chamber, 8"
SS Low pressure chemical process chamber, 8"
(4) Tanks
GENMARK Wafer handling robot
Wafer handler, 6"
Flowmeter
Touchscreen
Controller
CO2 Fire suppression system
3-Color signal tower
Manuals included.
SEMITOOL Equinox ist eine Photoresist-Ausrüstung zur Steigerung der Produktivität von Photolithographie-Prozessen. Es wurde entwickelt, um den Lade-/Entladevorgang zu vereinfachen, den manuellen Eingriff zu reduzieren und die Kompatibilität mit Reinräumen zu gewährleisten. Es bietet ein kompaktes und kostengünstiges Werkzeug, das ideal für den Einsatz in fortgeschrittenen Halbleiter- und MEMS-Fabs ist. Equinox verfügt über ein innovatives Dual Platen Transport System (DPTS). Diese Einheit ermöglicht das gleichzeitige Be- und Entladen von Werkstücken, was die Wendezeit reduziert und den Durchsatz drastisch erhöht. Die Maschine verfügt auch über vollautomatische Substrat- und Adapterhandhabung, die manuelle Eingriffe eliminiert. Das Werkzeug ist auch reinraumkompatibel und verfügt über hochmoderne Designelemente, um Partikelverunreinigungen zu reduzieren. Diese Konstruktionselemente umfassen eine dynamische Partikelisolierung zwischen den Waferkammern, abgedichteten Waferübertragungsförderern und gasgeblasenen Waferträgern. Zusätzlich ist das Werkzeug mit einem integrierten Controlled Enclosure Module (CEM) ausgestattet, das eine geschlossene Umgebung schafft, die Verschmutzungen verhindert und einen Reinraumbetrieb ohne zusätzliche Luftfiltration ermöglicht. SEMITOOL Equinox hat auch eine benutzerfreundliche LCD-Touchscreen-Schnittstelle. Die intuitive Menüstruktur sorgt für eine einfache Bedienung und bietet mehr Flexibilität als Standardkonsolen. Das Tool ist mit einer umfangreichen Bibliothek mit Standardrezepten ausgestattet, einschließlich optimierter Prozesse für verschiedene Materialien. Equinox bietet die ideale Lösung für Halbleiter- und MEMS-Fertigungsanforderungen. Es bietet hohe Produktivität, hervorragende Reinraumkompatibilität, benutzerfreundliche Bedienung und flexible Prozesskontrollen. Es ist daher ein ideales Werkzeug für Photolithographie-Prozesse in fortgeschrittenen Fabs.
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