Gebraucht SEMITOOL Equinox #9207969 zu verkaufen

SEMITOOL Equinox ist eine hochpräzise Photolackverarbeitungsanlage für die Halbleiterwaferbearbeitung. Es wurde entwickelt, um eine zuverlässige und präzise Abscheidung von Photolack auf Wafern zu ermöglichen, um die Herstellung von Submikron-Schaltungskonstruktionen für Hochleistungs-Mikroelektronik-Geräte zu ermöglichen. Equinox System ist für hochpräzise und wiederholbare Photolackbeschichtung ausgelegt. Es verwendet eine patentierte Vorbehandlungstechnik, um eine ausgezeichnete Haftung und Gleichmäßigkeit der Photoresist-Abscheidung zu gewährleisten. Das Gerät enthält einen chemischen Trockensprüher zur Herstellung von Photoresist-Oberflächen, ein Spin-Coater zum Abscheiden von Photoresist und eine spezialisierte Niedertemperatur-Post-Pour-Backe, die hilft, die Photoresist-Schicht richtig auf dem Wafer zu fixieren. SEMITOOL Equinox Maschine verfügt auch über automatisierte Endpunkterkennungsfunktionen, um genaue Ergebnisse zu liefern, wenn mehrere Photolackschichten mit unterschiedlichen Dicken abgeschieden werden. Es hat mehrere Temperaturkontrollmodi, einschließlich Oxy-Stickstoff, Stickstoff, Stille Argon und Hochdruck trockenen Abgas. Dies ermöglicht eine genauere Steuerung des Beschichtungsprozesses, der für die Herstellung hochwertiger Photolackschichten in verschiedenen Dicken wesentlich ist. Das Equinox-Tool verfügt über integrierte Sicherheitsprotokolle, die eine konsistente und zuverlässige Leistung bieten und verhindern, dass das Asset überlastet oder beschädigt wird. Es verfügt über ein ausgeklügeltes Dichtes Sublimationsmodell, das gleichmäßige und wiederholbare Ablagerungen von einer Schicht zur anderen gewährleistet. Es hat auch eine kontaminationsfreie Umgebung, die die Einführung von statischen und Aerosolverunreinigungen beseitigt, so dass nachfolgende Geräteschichten sauber und frei von Defekten bleiben. SEMITOOL Equinox verfügt über eine breite Palette von Prozessfähigkeiten und kann problemlos verschiedene Fotolacktypen wie SU-8, AZ, BISMOC, PMMA und mehr verarbeiten. Es ist für die Verarbeitung von bis zu 25 Wafern pro Stunde konzipiert und bietet eine außergewöhnliche Prozesskontrolle und Zuverlässigkeit für verlängerte Photolackabscheidungszeiten. Es verfügt über eine einzigartige Multi-Point Spin-Coat-Methode, die eine einheitliche, wiederholbare Prozessleistung garantiert. Insgesamt ist Equinox eine hochpräzise Photolackverarbeitungsanlage, die entwickelt wurde, um eine genaue und wiederholbare Fotolackabscheidung für die Halbleiterwaferbearbeitung bereitzustellen. Es verfügt über eine Reihe fortschrittlicher Funktionen und Prozessfähigkeiten, um eine schnelle, effiziente und zuverlässige Photoresist-Beschichtung für Hochleistungs-Mikroelektronik-Geräte zu gewährleisten.