Gebraucht SEMITOOL Equinox #9377488 zu verkaufen

SEMITOOL Equinox ist eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung, die für Präzision, Wiederholbarkeit und Qualität bei der Herstellung von Halbleiter- und anderen nanoskaligen Bauelementen entwickelt wurde. Das System besteht aus einer Reihe von Schritten, die einen dünnen Film aus Photolack über einem Substrat entwickeln, das glatt poliert wurde. Das Gerät stellt eine Umgebungskammer zur Verfügung, die sicherstellt, dass der Photolack gleichmäßig über den gesamten Wafer aufgebracht wird. Die Maschine enthält auch ein integriertes Wafer-Scan-Tool, das die Waferdicke misst, eine Steuerung und Überwachung der Photolackdicke vor Ort ermöglicht und die Schichtdicke der Photolackschicht bei Bedarf automatisch einstellt. Die Photolackschichten werden dann mit UV-Licht belichtet, dessen Intensität genau gesteuert und überwacht werden kann. Durch die UV-Belichtung bildet der Photolack ein Muster auf dem Wafer. Anschließend wird ein Nachbelichtungsbackschritt durchgeführt, um eventuell verbleibendes Lösungsmittel abzukochen und den Photolack für zusätzliche Prozesse wie Ätzen, Abscheiden und Lithographie zu härten. Der Fotoätzprozess ist ein entscheidender Schritt, um sicherzustellen, dass das erzeugte Photolackmuster perfekt bis zum Nanometerspiegel repliziert wird. Equinox beinhaltet ein On-Board-Ätzverfahren zum Ätzen des Photolackmusters im Wafer. Diese Maschine ermöglicht auch die Feinabstimmung des Ätzprozesses, um ein höheres Maß an Präzision und Genauigkeit zu erreichen. Darüber hinaus ist die Anlage so konzipiert, dass sie in allen Phasen des Photoresist-Prozesses eine hohe Temperaturgleichmäßigkeit gewährleistet. Dies gewährleistet eine gleichmäßige Abscheidung der Photolackschichten, verhindert eine Abweichung des Ätzprofils und ermöglicht es, dass jede Probe die gleichen Eigenschaften aufweist, auch wenn sie sich von einem Wafer zum anderen geringfügig unterscheidet. Kurz gesagt, SEMITOOL Equinox ist ein leistungsstarkes Fotoresist-Modell, mit dem nanoskalige Geräte mit hoher Präzision entwickelt werden können. Es umfasst eine Reihe von integrierten Systemen, um einheitliche Photolackschichten, präzises und genaues Ätzen und gleichmäßige hohe Temperatur während aller Stufen des Prozesses zu gewährleisten. Das Gerät bietet auch ein On-Board-Wafer-Scan-System, um Echtzeit-Überwachung und -Steuerung zu ermöglichen.