Gebraucht SEMITOOL Equinox #9408167 zu verkaufen

ID: 9408167
Weinlese: 2007
Etcher Process: GaAs 2007 vintage.
SEMITOOL Equinox ist eine Photolackverarbeitungsanlage für Trockenfilmanwendungen in der Halbleiterwaferbearbeitung. Es ist speziell für den Einsatz in Serienumgebungen konzipiert und bietet einen vollautomatischen, handfesten Ansatz, um der Beschichtung der Waferoberfläche zu widerstehen. Das System verwendet eine proprietäre Pin-and-Cup-Wafer-Transporteinheit, gekoppelt mit einer UV-Lichtquelle und einer Präzisionsgasfördermaschine, die das Resistmaterial auf die Oberfläche des Wafers liefert. Das Pin-and-Cup-Tool von Equinox ermöglicht einen schnelleren Durchsatz und eine gleichbleibende Beschichtungsqualität zwischen Wafern sowie einen einfachen Abruf beschichteter Wafer. Die Anlage verfügt auch über eine In-situ-Reinigungsfähigkeit, um eine saubere Verarbeitungsumgebung zu gewährleisten. SEMITOOL Equinox ist in der Lage, Resistmaterial in Dicken von 5 bis 12 Mikrometer zu liefern. Die Wafer-Transportgeschwindigkeit ist einstellbar und kann bis zu 150 Wafer pro Stunde verarbeiten. Die UV-Lichtquelle für Equinox verwendet eine Reihe von Lampen, die UV-Licht bei einer Wellenlänge von 365 Nanometern emittieren, was ideal für den Photolithographie-Prozess ist. Es hat auch eine variable Stromversorgung zur Steuerung der Intensität der Lichtquelle. Darüber hinaus verfügt SEMITOOL Equinox über ein vollautomatisches Modell zur Steuerung der Lieferung von Resistmaterial, mit bis zu vier verschiedenen Drucksensorpunkten sowie einer Reihe von Gas- und Chemikalienlieferungsmethoden wie Sprudeln und Sputtern. Equinox verwendet eine einzigartige Luftfilterausrüstung, um die gleichbleibende Luftqualität innerhalb der Maschine zu erhalten. Dieses System filtert die in die Maschine eintretende Luft durch einen Satz Filterkissen und sorgt für eine saubere Verarbeitungsumgebung mit minimaler Verschmutzung. SEMITOOL Equinox ist ein leistungsstarkes Werkzeug für die Photolithographie und Halbleiterwaferbearbeitung und bietet ein effizientes, automatisiertes Mittel zur Resistbeschichtung. Es bietet eine breite Palette von Fähigkeiten, die es für Serienumgebungen sowie Forschungs- und Entwicklungslabore geeignet macht.
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