Gebraucht SEMITOOL N27SF7L8WP-100-00000 #293665317 zu verkaufen

ID: 293665317
Wafergröße: 6"
Weinlese: 2010
Spin Rinse Dryer (SRD), 6" 2010 vintage.
SEMITOOL N27SF7L8WP-100-00000 ist eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung für hochwertige Präzisionslithographie. Das System ist eine Single-Wafer-Plattform, die eine vollautomatische optische Mehrbenutzer-Abbildungseinheit, eine geschlossene chemische Verarbeitungskammer und eine integrierte Abwasserbehandlungsmaschine umfasst. N27SF7L8WP-100-00000 ist auf Flexibilität ausgelegt, da das optische Mehrbenutzer-Bildgebungstool eine Vielzahl von Anwenderanwendungen wie Maskierung, Multimuster oder Kontaktilithographie ermöglicht. Die Anlage verwendet ein fortschrittliches Fotolackverarbeitungsmodell, das einen automatischen Lastsperrmechanismus, eine chemische Sprühausrüstung und einen Spinnprozessor umfasst. Dies ermöglicht eine präzise Verarbeitung des Photolacksubstrats, wodurch die Qualität des Lithographiemusters gewährleistet ist. Das System umfasst eine Bildquelle mit variabler Intensität für optimale Belichtung unter verschiedenen Winkeln, variablen Fokus für erweiterte Ausrichtung und programmierbare Ereignismarkierung für automatisierte Choreographie. Darüber hinaus ermöglicht die erweiterte optische Bildgebungseinheit SEMITOOL N27SF7L8WP-100-00000 dem Benutzer, entweder mit Kontaktlinsen oder mit Projektionsoptiken zu bildern, und ist in der Lage, eine variable Kontrastbildgebung abzubilden, die präzise Fingerabdrücke ermöglicht. Die integrierte chemische Aufbereitungskammer umfasst eine Dreiwege-Trennventilmaschine sowie ein automatisiertes Abwasserbehandlungswerkzeug zur genauen Überwachung und Steuerung der Ableitung von Restchemikalien und Abwasser. Das automatisierte Asset nutzt fortschrittliche Software zur Steuerung und Überwachung des Abwasserbehandlungsprozesses sowie integrierte Diagnostik. Darüber hinaus ist das Modell so konzipiert, dass es für verschiedene Anwendungen sowie für eine einfache Wartung problemlos rekonfigurierbar ist. Insgesamt ist N27SF7L8WP-100-00000 eine fortschrittliche Photolackausrüstung, die Präzisionslithographie und Flexibilität in Anwenderanwendungen bietet. Die integrierten chemischen Aufbereitungs- und Abwasserbehandlungskammern gewährleisten eine präzise Aufbereitung und Kontrolle von Restchemikalien und Abwasser. Die erweiterten optischen Abbildungsfunktionen des Systems, wie Bildquelle und Fokus mit variabler Intensität, ermöglichen einen präzisen Fingerdruck und eine genaue Ausrichtung. Darüber hinaus ist das Gerät für eine einfache Rekonfiguration und Wartung konzipiert, um sicherzustellen, dass es ein effektives Werkzeug für eine Vielzahl von Anwendungen bleibt.
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