Gebraucht SEMITOOL Paragon LT-210 #9115016 zu verkaufen

SEMITOOL Paragon LT-210 ist eine hochwertige Photoresist-Verarbeitungsanlage für die Verarbeitung von Wafern mit hohem Volumen. Das System wurde entwickelt, um eine überlegene Gleichmäßigkeit und Kontrolle aller Waferprozesse zu gewährleisten, von der Spin-Beschichtung bis zur Resistentfernung. Paragon LT-210 verfügt über eine Mehrzonen-Gasfördermaschine, die eine separate Gassteuerung für alle Prozesszonen bietet und eine schnelle und präzise Regelung von Temperatur, Druck und Gasfluss ermöglicht. Ein integriertes UV-LED-Beleuchtungswerkzeug ermöglicht eine gleichmäßige Verteilung der UV-Beleuchtung über die Prozesskammer für maximale Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit in Prozessen wie der Photolithographie. Das Asset verfügt außerdem über einen fortschrittlichen sechsachsigen Roboterarm mit einem integrierten Dentalroboter, der eine präzise Ausführung kritischer Prozessschritte ermöglicht. Der Dentalroboter ist ein innovatives Merkmal, das eine präzise und präzise Ausrichtung von Lithographiemasken und Resists ermöglicht. Darüber hinaus gewährleistet der Roboterarm eine präzise und wiederholbare Ausführung kritischer Prozessschritte. SEMITOOL Paragon LT-210 basiert auf einem sehr zuverlässigen Präzisions-Wafer-Transportmodell, das kombiniert maximale Betriebszeit und Zuverlässigkeit der Ausrüstung ermöglicht. Das System verfügt auch über SEMITOOL patentierte ShuttleFlo Turbo-Vakuum-Pumpeinheit, die schnelle Evakuierung von Dämpfen aus der Prozesskammer für eine schnelle Wafer-Umdrehung ermöglicht. Darüber hinaus verfügt Paragon LT-210 Maschine über ein integriertes Datenerfassungs- und Analysetool, das eine sichere und effiziente Protokollierung von Prozessparametern und eine detaillierte Analyse der Waferprozessergebnisse ermöglicht. Dies ermöglicht eine präzise Steuerung des Waferoberflächenwiderstandes und anderer kritischer Prozessparameter, liefert überlegene Waferausbeuten und eine verbesserte Prozesssteuerung. Insgesamt ist SEMITOOL Paragon LT-210 eine gut abgerundete Photoresist-Prozesskomponente, die für maximale Kontrolle, Zuverlässigkeit und Prozessgenauigkeit für Anwendungen mit großvolumigen Waferprozessen entwickelt wurde. Das Modell basiert auf hochzuverlässigen Hardwarekomponenten mit integriertem Analysepaket zur detaillierten Prozessanalyse. Die Ausrüstung ist für höchste Erträge und Wiederholbarkeit optimiert, was sie zu einer ausgezeichneten Wahl für industrielle Waferbearbeitungsanforderungen macht.