Gebraucht SEMITOOL Paragon #293592805 zu verkaufen

SEMITOOL Paragon ist eine „Photoresist“ -Ausrüstung, die von SEMITOOL, Inc. entwickelt wurde, um extrem feine Eigenschaften in Halbleitern zu schaffen. Das System verwendet einen hochpräzisen Masken-Aligner, der in der Lage ist, Muster mit hervorragender Genauigkeit auf ein Halbleitersubstrat abzubilden. Der Prozess beginnt mit einer Photomaske, die das Muster enthält, das auf das Substrat übertragen werden muss. Dann wird ein spezialisiertes Stück Photomaske über dem Substrat platziert, und Licht, das durch die Maske scheint, wird verwendet, um das gewünschte Muster zu erzeugen. Die Photoresist-Einheit Paragon besteht aus zwei Hauptgeräten: dem Photo Aligner und dem Entwickler. Das Photo Aligner besteht aus einer Ausrichtstufe, einem Tophalter und einem Beleuchter. Die Ausrichtstufe steuert die Genauigkeit, mit der die Fotomaske über dem Substrat ausgerichtet ist, während der obere Halter eine glatte Oberfläche bereitstellt, über die sich die Fotomaske bewegen kann. Der Beleuchter verwendet photoresistkompatible Lichtquellen, einschließlich sichtbarer, UV und IR, um extrem feine Eigenschaften zu schaffen. Der Entwickler ist für die Entfernung und Fixierung des Photolackmaterials ausgelegt. Nachdem das Photolackmaterial dem gewünschten Muster ausgesetzt ist, muss es von der Oberfläche gereinigt und eine neue Photolackschicht aufgebracht werden. Um dies zu erreichen, verwendet der Entwickler eine nasse Bank, die chemische Bäder verwendet, um den Fotolack zu entfernen und zu fixieren. SEMITOOL Paragon Photoresist Maschine ist entworfen, um die genaue und wiederholbare Erzeugung von Halbleitermustern mit kleinen Größen und Merkmalsgrößen zu ermöglichen. Das Werkzeug bietet Genauigkeit bis zu 45nm mit hohem Durchsatz und Funktion-Größe Steuerung. Der Masken-Aligner des Asset ermöglicht eine extrem präzise Ausrichtung der Fotomaske auf dem Wafer, um die Genauigkeit weiter zu erhöhen. Darüber hinaus ermöglicht das Modell den Einsatz einer Vielzahl von Photoresists, so dass die gewünschten Merkmalsgrößen erreicht werden können.