Gebraucht SEMITOOL PSC-101 #137503 zu verkaufen

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SEMITOOL PSC-101
Verkauft
ID: 137503
Wafergröße: 6"
Weinlese: 2006
Spin rinse dryer, 6", 2006 vintage.
SEMITOOL PSC-101 Photoresist Equipment ist ein leistungsfähiges und zuverlässiges automatisiertes Verarbeitungssystem für komplexe mikroelektronische Fertigungsprozesse. Es bietet ein hohes Maß an Flexibilität und Wirtschaftlichkeit für die Erstellung fortschrittlicher elektronischer Komponenten und Geräte. SEMITOOL PSC 101 verfügt über eine Doppelkammer-Einheit, die für die Arbeit mit Prozessen wie Resistentwicklung, Beschichtung, Spinnen und Backen entwickelt wurde. Die beheizte Backplatte bietet einen Temperaturbereich von bis zu 200 ° C und eine gleichmäßige Geschwindigkeit von 5 ° C/min, während der programmierbare Timer einen Zeitbereich von bis zu 180 Sekunden bietet. Die Maschine ermöglicht auch eine einfache Reinigung und Wartung mit einem abnehmbaren Waschkorb, eingebautem Sensor zur Vermeidung von Übermischung, einem geringen Volumen Waschmittel Förderwerkzeug und einem Abflussbehälter. PSC-101 nutzt seine intuitive Touchscreen-Oberfläche, um grafikgesteuerte Programmierung einfach und unkompliziert zu gestalten. Mit dieser Funktion können Benutzer die Beschichtungsparameter schnell einstellen und das gewünschte Schichtdickenprofil festlegen. Es kann auch verwendet werden, um vorprogrammierte Verarbeitungsrezepte für Wiederholungsmethoden aufzuzeichnen und zu speichern. PSC 101 ermöglicht eine schnelle und effiziente Photolackbeschichtung und -entwicklung mit zwei unabhängigen Quellen für jede Kammer, einschließlich eines mittleren und schnellen Spin-Prozesses für eine schnellere Lieferung. Die leicht zugängliche Frontabdeckung bietet Komfort beim Waferwechsel. SEMITOOL PSC-101 bietet auch erweiterte Funktionen speziell für Maskenausrichtung und Lithographie Genauigkeit entwickelt. Das patentierte optische Ausrichtungsobjekt MaskMaster ermöglicht die Ausrichtung von Sub-Mikron, on-the-fly für eine schnellere und genauere Ausrichtung der Wafer. Der linke und rechte Druckkopf bieten eine schnelle Ausrichtzeit und eine verbesserte Reproduzierbarkeit, während das Dual-Emulsionsdrehmodell eine gleichzeitige Drehung auf einem Wafer ermöglicht. Zusammenfassend ist SEMITOOL PSC 101 eine fortschrittliche, zuverlässige und kostengünstige Ausrüstung, die eine breite Palette von Funktionen und Funktionen bietet, um den Anforderungen anspruchsvoller industrieller Anwendungen gerecht zu werden. Es ist ein leistungsfähiges Automatisierungssystem, das die Produktivität steigern und den Zeitaufwand für die erfolgreiche Durchführung von Prozessen wie Photoresist-Beschichtung und -Entwicklung reduzieren soll.
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