Gebraucht SEMITOOL PSC-101 #293600518 zu verkaufen

ID: 293600518
Wafergröße: 6"
Spin dryer, 6" M/N: 270S-3-1-E-ML.
SEMITOOL PSC-101 ist eine von SEMITOOL, Inc. Dieses System soll es Herstellern ermöglichen, Produkte mit hoher Präzision und Qualität schnell und präzise herzustellen. Zu den Hauptkomponenten des Geräts gehören eine reinraumgesteuerte Prozesskammer, ein automatisierter Substratübertragungsroboter und ein Sprühroboter. Die Prozesskammer ist so konzipiert, dass sie eine saubere und sterile Umgebung für die Photolackverarbeitung bietet und integrierte automatisierte Prozesse aufweist, die eine schnelle und zuverlässige Substratentwicklung ermöglichen. Der automatisierte Substrattransferroboter transportiert Wafer sicher und kontrolliert vom Eingang zum Ausgang. Schließlich ist der Sprühroboter mit einer hochgenauen Düsenmaschine ausgestattet, die ein gleichmäßiges Aufbringen von Photolack auf das Substrat gewährleistet. Das Werkzeug kann eine Vielzahl von Substraten handhaben, einschließlich Siliziumscheiben, Glas, Quarz und Polyimid. Es liefert auch mehrere verschiedene Beschichtungen, wie Polyimid Parylen, Polyimid Fertanol, Polyimid Polyamid, Polyimid SiLK, Polyimid BN und Polyimid Acryl. Eine breite Palette von Photoresists kann mit dem Asset verwendet werden, einschließlich DryFilm Autoloader, Resist Typ III (Typ TX-1), DryFilm AP300 und Resist Exposure Kit. Darüber hinaus kann dieses Modell mit einer Vielzahl von Lasern zur Photoresist-Überempfindlichkeit verwendet werden. Die Prozesskammer von SEMITOOL PSC 101 ist mit mehreren Funktionen ausgestattet, um die Genauigkeit zu erhöhen. Dazu gehören: eine schnelle thermische Bearbeitungseinrichtung, eine temperaturgesteuerte Kammer, eine doppelte Substratheizung, ein Gleichmäßigkeitskontrollsystem und ein Prozessmonitor. Die schnelle thermische Verarbeitungseinheit kann qualitativ hochwertige Sprays mit einer minimalen Anzahl von Zyklen erzeugen, Zykluszeiten reduzieren und die Effizienz erhöhen. Die temperaturgesteuerte Kammer ermöglicht es Benutzern, die Temperatur der Kammer von 0-500 Grad Celsius zu steuern, was genaue und wiederholbare Ergebnisse ermöglicht. Die doppelte Substratheizung hält Substrate während der Verarbeitung auf der gleichen Temperatur, während die Gleichförmigkeitsregelmaschine für eine gleichmäßige Belichtung sorgt. Schließlich ermöglicht der Prozessmonitor dem Benutzer, den Photoresist-Belichtungsprozess zu überwachen, sodass Hersteller mögliche Probleme schnell diagnostizieren und beheben können. PSC-101 ist ein ideales Werkzeug für Photoresist-Hersteller, die die Genauigkeit erhöhen und Zykluszeiten reduzieren möchten. Mit automatisierten Prozessen, reinraumgesteuerten Prozessen und einer breiten Palette kompatibler Fotoresists ist dieses Tool ein zuverlässiges und effizientes Werkzeug, das die Qualität verbessern und Kosten senken kann.
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