Gebraucht SEMITOOL PSC-101 #293725377 zu verkaufen

SEMITOOL PSC-101 Photoresist Equipment ist ein Präzisionsbeschichtungswerkzeug für photolithographische Anwendungen. Das System bietet eine breite Palette von Funktionen und Funktionen, so dass der Benutzer den Photolack genau und konsequent auf den Halbleiterwafer beschichten kann. Die Hauptkomponenten der Einheit sind der Körper, das Leistungsmodul, die Prozesssteuerung, die Düse und die Maskenplatten. Der Körper der Maschine umfasst den Antriebsmotor und das Getriebe, das Stützzapfenwerkzeug und die Druckfördermechanismen. Das Leistungsmodul steuert den Drehzahl- und Leistungsbedarf des Antriebs und übernimmt die Versorgung des elektrischen Steckverbinders. Der Prozesscontroller steuert alles von den Leistungseinstellungen bis zu den Kocheinstellungen, einschließlich der Verteilung der Fotoresists und des Kochs und der kühlen Parameter. Die Düse verteilt dann den Photolack auf der Oberfläche des Wafers. Schließlich werden die Maskenplatten verwendet, um eine genaue Ausrichtung der Photolackschichten auf das Substrat zu gewährleisten. Das Photolackverfahren kann auf zwei Arten durchgeführt werden, wobei zum einen die rotierende Waferstufe und zum anderen die Verwendung einer Maskenplatte verwendet wird. Die rotierende Waferstufe verwendet ein Vakuumfutter, um einen Wafer festzuhalten und einen Drehtisch, um den Wafer zu drehen. Dadurch kann der Benutzer den Wafer so drehen, dass er die Photolacke genau und gleichmäßig auf die Oberfläche schichten kann. Die Maskenplattentechnik wird verwendet, um eine gleichmäßige Beschichtung auf jeder Seite des Wafers zu erzeugen, unter Vermeidung von Überlappungen zwischen den Schichten. Der Controller von SEMITOOL PSC 101 Photoresist Asset verfügt über eine Vielzahl von Funktionen und Einstellungen. Es kann programmiert werden, um die Anwendung der Photolacke einschließlich der Prozesszeit, des Stroms, der Temperatur und des Drucks genau zu steuern. Der Controller verfügt zudem über eine leicht lesbare Oberfläche, mit der der Benutzer Einstellungen auf einen Blick anpassen und verfolgen kann. Darüber hinaus bietet das Modell eine automatische Kompensationsfunktion, die Parameter automatisch nach Änderungen in Temperatur, Feuchtigkeit oder Druck verschiebt. PSC-101 Photoresist Equipment ist ein komfortables, effizientes und genaues Werkzeug für Photolithographie-Prozesse. Es ist so konzipiert, dass es benutzerfreundlich ist und eine breite Palette von Funktionen und Einstellungen bietet und in der Lage ist, Fotolacke schnell und präzise auf den Halbleiterwafer zu beschichten, was Zeit und Geld spart.