Gebraucht SEMITOOL PSC-101 #293746635 zu verkaufen

SEMITOOL PSC-101 Photoresist Equipment ist eine chemische Nassbank zur Handhabung, Entwicklung und Abisolierung von Photoresists und Photoresist-Lösungen für Halbleiterbauelemente. SEMITOOL PSC 101 verfügt über Eintankeintauchmöglichkeiten mit einem chemischen Abgabesystem, das mit hochpräzisen und volumenarmen Abgabefähigkeiten konzipiert wurde. Es wird mit zwei wartungsfreien und temperaturkontrollierten Heizungen ausgestattet, um das optimale Ätzen zu bieten, dem Abstreifen und chemischen Lösungsfilmeigenschaften-Management zu widerstehen, während man die Voraussetzungen von vielfachem IC in einer Prozession gehende Protokolle übertrifft. Alle Prozesse sind benutzerprogrammierbar und ermöglichen die Steuerung aller zugehörigen Größen wie Druck, Temperatur, Durchfluss und Gesamtprozessdauer. PSC-101 verfügt zudem über eine Dual-Drain-Anlage mit Säure- und DI-Tankunterstützung sowie eine Metall- (Magnet-) Partikelfiltrationsmaschine zur automatisierten Entfernung von Metalloxidpartikeln und anderen Kontaminaten, wodurch Abfall- und Verarbeitungskosten reduziert werden. In der Lage, Substrate bis zu einer Größe von 8 "im Durchmesser zu handhaben, ist PSC 101 eine kompakte, flexible Maschine, die leicht in bestehende Photomaske-, Wafer- und Maskenherstellungssysteme integriert werden kann. SEMITOOL PSC-101 ist hochgradig programmierbar und bietet Erweiterbarkeit, so dass Benutzer das Tool auf die genauen Anforderungen ihrer Anwendung anpassen können. SEMITOOL PSC 101 ist mit mehreren Sensoren ausgestattet, um die Integrität der Anlage kontinuierlich zu überwachen und eine konsistente Verarbeitung des Photolacks zu gewährleisten. Darüber hinaus verfügt das Modell über eine leistungsstarke Vier-Kanal-Fernbedienung zur Anbindung an externe Prozesssteuerungssysteme. Mit einer wässrigen Sprühspüldüsenkonfiguration, einem Flüssigkeitsstandsindikator sowie einem Compound-Wafer-Indexer ist PSC-101 zu einer Reihe von Verarbeitungstechniken in der Lage. Darüber hinaus ist die Ausrüstung mit einem eingebauten Sicherheitssystem zum Schutz von Benutzern und empfindlichen Chemikalien konzipiert. PSC 101 bietet eine flexible und effiziente Lösung für die Photolacksynthese und -verarbeitung, die sich leicht an die Anforderungen fortschrittlicher Halbleiteranwendungen wie präphotonische Blattherstellung, integrierte photonische Bauelementherstellung oder Mikromachinierung anpassen lässt. Die hochauflösende Verarbeitungskammer, die präzise chemische Dosiereinheit und die Kompatibilität mit mehreren externen Prozessleitsystemen machen es zu einer idealen Wahl.