Gebraucht SEMITOOL PSC-101 #9184611 zu verkaufen

SEMITOOL PSC-101 ist eine Photoresist-Ausrüstung für den Einsatz in der Halbleiter- und Optoelektronikindustrie. Das System bietet einen hohen Grad der Genauigkeit mit seinem Mehrkanal-an, modulare photowiderstehen Dünnfilmabsetzungseinheit. Es verfügt über eine Reihe von Funktionen, um Genauigkeit und Präzision zu gewährleisten, einschließlich einer automatisierten programmierbaren Musterdateierzeugung, einer temperaturgesteuerten Prozesskammer, hochauflösenden Bildgebungsfähigkeiten und einer überlegenen Fotoresistfilmbildung. SEMITOOL PSC 101 verwendet Präzisions-Photolithographie-Technologie, um die Bildung von Photoresist-Filmen zu ermöglichen. Diese besteht aus einer laserbasierten oder ultravioletten (UV) Lichtquelle zur Belichtung des Photolackmaterials nach einem Maskenmuster, das von der mitgelieferten Steuerungssoftware erzeugt und gesteuert wurde. PSC-101 verfügt über eine in sich geschlossene Maschine mit mehreren Kanälen, die eine gleichmäßige, genaue und wiederholbare Photoresist-Abscheidung ermöglicht. Dadurch wird sichergestellt, dass die Photolackschicht auf einer präzisen Substratoberfläche ohne übermäßige Variation innerhalb oder über den gesamten Substratbereich hergestellt werden kann. Die automatisierte programmierbare Musterdateigenerierung von PSC 101 bietet eine Reihe von Vorteilen. Es bietet zusätzliche Flexibilität bei Bedarf, um die Musterdatei schnell zu ändern, ohne die Musterdatei jedes Mal manuell programmieren zu müssen. Das Tool enthält eine leistungsstarke, benutzerfreundliche Steuerungssoftware, die die Erzeugung und Bearbeitung von Musterdateien optimiert, um Zeit und Aufwand weiter zu minimieren. Herzstück von SEMITOOL PSC-101 ist die temperaturgeregelte Prozesskammer. Dadurch wird sichergestellt, dass die Temperatur von einem Lauf zum nächsten genau gehalten wird, was hilft, eine konstante und zuverlässige Fotoresistfilmbildung aufrechtzuerhalten. Es gewährleistet auch eine höhere Auflösung bildgebende Fähigkeit, um sicherzustellen, dass Muster in einer einzigen Maske konsistent bleiben. SEMITOOL PSC 101 wurde entwickelt, um überlegene Fotoresist-Filmbildungsfähigkeiten zu bieten, wie schnelle Anfangszeit und verbesserte Filmhaftung, bei gleichbleibender Genauigkeit und Präzision. Daraus ergibt sich eine robustere Photolackschicht, die dann für eine Reihe von Geräte- und optoelektronischen Anwendungen verwendet werden kann. Zusammenfassend ist PSC-101 Photoresist Asset ein Präzisions-Photolithographiemodell mit automatisierter programmierbarer Musterdateierzeugung, einer temperaturgesteuerten Prozesskammer und hervorragenden Fotoresist-Filmbildungsfähigkeiten. Es bietet die Genauigkeit und Präzision, die für Halbleiter- und Optoelektronik-Anwendungen erforderlich ist.