Gebraucht SEMITOOL PSC-101 #9185381 zu verkaufen

ID: 9185381
Wafergröße: 6"
Spin rinse dryer, 6".
SEMITOOL PSC-101 Photoresist ist ein fortschrittliches Nassverarbeitungssystem, das für eine Vielzahl von Halbleiterherstellungsaufgaben verwendet werden kann. Das Gerät ist in der Lage, mit Wafergrößen bis 300 mm umzugehen und besteht aus mehreren Modulen einschließlich einer Logikeinheit, einer Präzisionssprühvorrichtung, einer Gleisanordnung, Wafer-Handhabungssystemen und der Resistbearbeitungsstation. Die Logikeinheit ist der zentrale Teil der Maschine und die Hauptsteuerung, die für den Betrieb aller Untereinheiten verantwortlich ist. Es ist das Gehirn des Werkzeugs und steuert alle einzelnen Teile des Vermögenswertes. Das Präzisionssprühgerät wurde entwickelt, um Flüssigkeiten in ein feines Spray zu zerstäuben, das ideal für Photoresist-Anwendungen ist. Die Gleisanordnung ist das Rückgrat des Modells und für den Transport des Wafers zwischen der Sprühstation und der Resistbearbeitungsstation verantwortlich. Die Wafer-Handhabungsgeräte regeln die Bewegung der Wafer und sorgen für Genauigkeit und Sicherheit bei der Handhabung. Die Resistbearbeitungsstation lädt und entlädt Wafer automatisch und führt sie dann durch die Belichtungsstation, wo der Photolack aufgebracht wird. SEMITOOL PSC 101 ist eine effektive und automatisierte Lösung für den Auftrag von Photolackbeschichtungen. Es ist präzise und zuverlässig mit einem Dry-in-Place-Feature, das die Bearbeitungszeiten erhöht. Es ist auch mit einer Anti-Splash Cap ausgestattet, die Abfälle und das Risiko einer Kontamination während des Betriebs minimiert. Das System besteht aus hochwertigen Materialien, die Haltbarkeit und sicheren Betrieb gewährleisten. PSC-101 ist ein großartiges Werkzeug für die Herstellung modernster Halbleiterprodukte.
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