Gebraucht SEMITOOL PSC-102 #293642734 zu verkaufen

SEMITOOL PSC-102 ist ein Photoresist-Gerät, das entwickelt wurde, um eine gleichmäßige Belichtung von Wafern mit chemischen und Lichtquellen während des Photolithographie-Prozesses zu liefern. Dieses System besteht aus zwei Hauptkomponenten: der Abgabestation und der Belichtungseinheit. Über die Abgabestation werden die Wafer in die Belichtungseinheit ein- und ausgefahren. Die Station verfügt über zwei Kassetten, die jeweils bis zu 15 Wafer aufnehmen. Die Wafer werden mittels eines dreiachsigen Ausrichtmechanismus von der Kassette zur Belichtungseinheit überführt, der die Wafer direkt von ihren Abgabekassetten auf die Belichtungseinheit ausrichtet. Das Gerät verwendet auch Automatisierungssoftware, um die Kassetten, den Wafertransport und die Belichtungsparameter zu steuern. Die Belichtungseinheit ist das Herzstück der Maschine und dient zur Belichtung der Wafer. Diese Einheit beherbergt eine Lampe mit hoher Intensität, die für verschiedene Arten von Fotolackmaterialien auf unterschiedliche Strahlungsstufen eingestellt werden kann. Das Gerät bietet auch eine präzise Steuerung der Belichtungszeit. Der Belichtungsbereich ist abgedichtet und bietet Schutz vor Staub und anderen Verunreinigungen. Das Tool bietet zudem fortschrittliche Sicherheitsmaßnahmen, um den Anwender sowie die Wafer vor Strahlung zu schützen. Darüber hinaus bietet SEMITOOL PSC 102 eine automatisierte vor- und nachgelagerte Prozesssteuerung. Dies beinhaltet eine präzise Überwachung, um die genauen Belichtungszeiten und -stufen zu verfolgen, sowie die Möglichkeit, zuvor verwendete Belichtungseinstellungen zu speichern und abzurufen. Diese Merkmale gewährleisten die Erzeugung einheitlicher und wiederholbarer Photolackmuster. Insgesamt ist PSC-102 ein automatisiertes, effizientes und zuverlässiges Modell für die Fotolackmusterung. Sein modularer Aufbau und seine Sicherheitsmerkmale sorgen dafür, dass Wafer durch die Produktion angetrieben werden können und bieten gleichzeitig Schutz vor Kontamination und Überbelichtung durch Licht. Seine automatisierte Steuerung und vor-/nachgelagerte Prozesskontrollausrüstung machen es einfach, genaue und wiederholbare Photolackmuster zu erstellen.