Gebraucht SEMITOOL PSC-102 #293820424 zu verkaufen

SEMITOOL PSC-102 Photoresist Equipment ist ein Hochleistungs-Verarbeitungssystem, das entwickelt wurde, um eine präzise fehlerfreie Photoresist-Beschichtung und -Entwicklung für eine Vielzahl von Waferanwendungen bereitzustellen. Das Gerät ist mit fortschrittlichen Touchscreen-Steuerungen ausgestattet, die die Maschine einfach zu bedienen und zu programmieren machen. Es ist in der Lage, den Anwendern eine präzise Temperatur- und Feuchtigkeitsregelung sowie präzise Drehzahlen, Timer-Steuerungen und Tauchbeschichtungsfähigkeiten zu bieten. Darüber hinaus ist das Werkzeug mit einer leistungsstarken Prozessüberwachung ausgestattet, die in der Lage ist, die Gleichmäßigkeit der Resistfolie sowie andere kritische Resistparameter wie Dicke zu überprüfen. Das Modell SEMITOOL PSC 102 ist auch mit einem Resist Stripper Module (RSM) ausgestattet, das sowohl für die Waferoberflächenreinigung als auch für die Photoresist-Entfernung verwendet wird. Das RSM besteht aus einer Ultraschallreinigungskammer, einem Substratprozessor und einem trockenen Ventilatortisch. Die Ultraschallkammer wird verwendet, um die Entfernung von Substraten zu gewährleisten und eine ordnungsgemäße Oberflächenreinheit vor der Beschichtung von Photoresist auf den Wafern zu gewährleisten. Der Substratprozessor ist für die Bereitstellung von Substrat und Waferreinigung, Resist Stripping und Trocknung des Wafers verantwortlich. Schließlich ist der trockene Ventilatortisch so konzipiert, dass er alle verbleibenden Resiststoffe schnell freisetzt und dazu beiträgt, Produktabfälle und Kontaminationen zu vermeiden. Das Gerät verfügt über mehrere optionale Komponenten, wie einen Pulverliefertrichter, eine Luftdusche, eine modulare Hochgeschwindigkeitsspinstation und automatisierte Handlingsysteme. Der Pulverfördertrichter dient zur Lagerung und Abgabe von magnetoresistiven und konventionellen Photoresists. Die Luftdusche wird verwendet, um eine Umgebungs- und Barrierenumgebung für Wafer zur Verfügung zu stellen, um überlegene Photoresist-Beschichtung, Entwicklung und Kantenintegrität zu fördern. Die modulare Hochgeschwindigkeits-Spin-Station bietet zusätzliche Flexibilität, da sie ein geringes Profil für Wafer ermöglicht und eine hohe Zuverlässigkeit und Genauigkeit der Spin-Prozesse gewährleistet. Die automatisierten Handlingsysteme sind maßgeschneidert, um verschiedene Arten von Fotoresists zu handhaben, einschließlich konventioneller und moderner fortschrittlicher Fotoresist. Jedes automatisierte System ist mit größter Sorgfalt konzipiert, um einen zuverlässigen und sicheren Betrieb zu gewährleisten. Kurz gesagt, PSC-102 Photolackeinheit ist eine Hochleistungs-Verarbeitungslösung, die Anwendern eine präzise Steuerung und zuverlässige Leistung bietet. Seine Funktionen und Optionen bieten Benutzern eine breite Palette von Optionen und Flexibilität, um ihre Bedürfnisse und Anforderungen zu erfüllen.