Gebraucht SEMITOOL PSC-102 #9400846 zu verkaufen

SEMITOOL PSC-102 ist eine fortschrittliche Photolackverarbeitungsanlage für die Halbleiterwaferbearbeitung und andere fortschrittliche Photolithographieanwendungen. Es ist ein vollautomatisiertes Inline-System, das eine überlegene Prozesssteuerung, reduzierte Ausfallzeiten und erhöhte Prozessflexibilität bietet. Das Gerät nutzt zwei große Teilsysteme, die Nassätzkammer und die Spin-Coater-Kammer, um eine komplette Photoresist-Bearbeitungsumgebung bereitzustellen. Die Naßätzkammer von SEMITOOL PSC 102 verwendet eine reaktive Lösung, um eine Photolackschicht von der Substratoberfläche eines Wafers zu entfernen. Dies geschieht durch eine Kombination aus mechanischem und chemischem Strippen. Die Kammer beherbergt eine präzise, programmierbare Drehplattform, die eine gleichmäßige Drehung des Wafers ermöglicht, während Präzisionsdüsen die Ätzlösung abgeben. Die ultravioletten LEDs in der Kammer sorgen für die notwendige Belichtung der Photolackschichten und ermöglichen somit eine höhere Auflösung innerhalb der geätzten Grenzen. Der Ätzprozess wird durch den Einsatz programmierbarer Gasentlüftungen weiter verbessert, was ein sehr gleichmäßiges Ätzen über die gesamte Oberfläche des Wafers ermöglicht. Die Spin-Coater-Kammer ist zur gleichmäßigen Abscheidung einer dünnen Photolackschicht über der Oberfläche des Wafers ausgelegt. Die Kammer beherbergt eine präzise, motorisierte Plattform für gleichmäßige Waferdrehung und ist mit einer Flüssigkeitsabgabemaschine zur präzisen Lösungsabgabe ausgestattet. Die Spin-Coater-Kammer ist ferner mit einer Turbopumpeneinheit und einem Gasverteilwerkzeug zur besseren Steuerung der atmosphärischen Umgebung und Photoresist-Abscheidung ausgestattet. Eine Digitalkamera und ein verbesserter Optikhelfer bei der Überprüfung des Prozesses, um optimale Prozessergebnisse zu gewährleisten. PSC-102 ist eine fortschrittliche Photolackverarbeitungsanlage, die eine effiziente und automatisierte Plattform für die Photolithographie und Halbleiterherstellung bietet. Es bietet eine überlegene und zuverlässige Prozesssteuerung, reduzierte Ausfallzeiten und erhöhte Prozessflexibilität zur Verbesserung der Produktausbeute. Das Modell ist ideal für fortgeschrittene Photolithographie-Anwendungen und eignet sich sowohl für hohe Volumen- als auch für kleinere laufende Waferbearbeitungsanforderungen.