Gebraucht SEMITOOL Raider ECD 210 #9355393 zu verkaufen

ID: 9355393
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2004
Electroplating system, 8" Model no: R310PD2 (1SA2CFD1CAP) 08 (CuNi) 03 (3) Cassette WIPs Linear dual arm robot With single vacuum end effector Advanced Replenishment Unit (ARU) (2) Chemical Delivery Units (CDU) (2) Heat exchangers DI Boost pump Fire suppression system With (3) CO2 Bottles Computers: WIP Computer Module Computer Robot Computer Controllers: Front User Interface (FUI) Rear User Interface (RUI) 502 Controller Operating system: Windows embedded Chamber mainframes: CPC 2 / Capsule, backside clean and bevel etch CPC 4 / ECD, CFD3M CPC 7 / ECD, CFD3M CPC 9 / SRD Missing parts: Rings and lip seals Anodes Power supply: 208 VAC, 50/60 Hz, 4 Wires, 3 Phase 2004 vintage.
SEMITOOL Raider ECD 210 ist eine High-End-Photoresist-Ausrüstung, die für Anwendungen von der Halbleiter- bis zur MEMS-Herstellung entwickelt wurde. Dieses System wurde entwickelt, um Photolack auf Wafern und Substraten abzuscheiden und zu streifen, um eine Oberflächenschicht zu schaffen und den Aufbau elektronischer Komponenten zu ermöglichen. Es integriert genaues Scannen, um eine gleichmäßige Abdeckung der Schicht über die gesamte Fläche zu gewährleisten. Raider ECD 210 verfügt über eine fortschrittliche und benutzerfreundliche computergestützte Software, die speziell für einen schnelleren Abscheide- und Strippprozess entwickelt wurde. Diese Einheit ermöglicht es dem Bediener, ganze Prozesse in den Computer zu programmieren, wie beispielsweise Beschichtungsgeschwindigkeit und -raten, sowie andere Parameter wie Druck und Temperatur. SEMITOOL Raider ECD 210 bietet eine bessere Stoffkontrolle durch Einstellung der erforderlichen Temperatur, Rührgeschwindigkeit und thermolenticular Verhältnis. Diese Maschine bietet einstellbare Spinngeschwindigkeiten und chemische Lösungsbehälter, die eine optimale und gleichmäßige Abscheidung von Photolack auf dem Wafer oder Substrat ermöglichen. Es bietet großzügige Flexibilität und kann eine breite Palette von Substraten aus verschiedenen Materialien handhaben, von Silizium bis Quarz. Die Spinnkammer ist leicht zu steuern, so dass der chemische Prozess schnell aufgebaut werden kann. Es kann auch effektiv die chemische Lösung enthalten und Verunreinigungen der Photolackschicht reduzieren. Raider ECD 210 ist mit einem RFID-Werkzeug zur Verfolgung der chemischen Lage und Lagerung ausgestattet, was die Sicherheit des Bedieners gewährleistet. Es ist auch mit einer eingebauten Schnittstelle versehen, um die Geschwindigkeit und den Druck des Beschichtungsprozesses genau zu steuern. Um einen reibungsloseren Betrieb und die Qualität der lichtempfindlichen Schicht zu gewährleisten, ist diese Komponente in einen Vakuumstrippprozess integriert. Um konsistente Ergebnisse zu liefern, verfügt der SEMITOOL Raider ECD 210 über integrierte Überwachungs- und Steuerungsfunktionen. Dieses Modell wurde mit fortschrittlicher Technologie entwickelt und liefert konstant hohe Erträge mit niedrigen Betriebskosten. Raider ECD 210 eignet sich für eine Vielzahl von Anwendungen, einschließlich integrierter Schaltungsgewebe und MEMS-Montage.
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