Gebraucht SEMITOOL Raider ECD 300 #9223828 zu verkaufen

SEMITOOL Raider ECD 300 ist ein Photoresist-Gerät, das zum Auftragen einer undurchsichtigen, lichtempfindlichen Substanz auf einen ausgewählten Teil eines Halbleiterwafers vor dem Ätzen oder einer anderen Weiterverarbeitung verwendet wird. Dieses Gerät wurde speziell entwickelt, um eine höhere Genauigkeit und Zuverlässigkeit der Strukturierung für die Photolithographie zu gewährleisten. Raider ECD 300 verwendet elektronenstrahlinduzierte chemische Abscheidung (EBID) Technologie, die eine Variation der chemischen Dampfabscheidung (CVD) ist. Ein Elektronenstrahl wird den Wafer gerichtet, wobei Elektronen und Ionen im Gas um den Wafer herum erzeugt werden, die mit dem Photolackmaterial reagieren und über dem ausgewählten Teil des Wafers eine undurchsichtige Decke bilden. Dieses Verfahren ist in der Lage, die Strukturierung des Photolacks von 2 bis 500 um Tonhöhe zu detektieren und zu steuern, wobei Merkmalsgrößen bis 0,3 um klein sind. SEMITOOL Raider ECD 300 ist mit Hardware ausgestattet, die die Betriebsgeschwindigkeit erhöht und die Reproduzierbarkeit und Zuverlässigkeit erhöht. Dazu gehören Autofokus- und Wafer-Nivellierfähigkeit, die sicherstellt, dass das Photolackmuster effizient und genau aufgebracht wird. Das System ist auch mit automatisierter Stufendrehung für minimale Reticle-Abbildungszeit ausgestattet. Raider ECD 300 hat die Fähigkeit, verschiedene Fotoresistenzen zu unterstützen, von 400 nm bis 1000 nm Dicke mit hohem Seitenverhältnis Fähigkeit. Es ist auch in der Lage, heiße und kalte einseitige Resistverarbeitung bis zu 600 ° C. Darüber hinaus verfügt die Einheit über fortschrittliche Vakuumtechnologie, die eine zuverlässige Resistspin-Beschichtung ermöglicht, die Partikelemissionen reduziert und eine längere Lebensdauer der Kammer gewährleistet. Die fortschrittlichen Steuerungen des SEMITOOL Raider ECD 300 und seine hochpräzisen Sensoren ermöglichen eine konsistente Anwendung von Photoresist über dem Wafer. Die enge Kontrolle der Belichtungsparameter gewährleistet eine gleichmäßige Dicke über die Waferoberfläche und ermöglicht eine präzise Steuerung der kritischen Abmessungen des Musters. Insgesamt ist Raider ECD 300 ein ideales Werkzeug für die Herstellung von Halbleiterbauelementen und eignet sich für Anwendungen, die Präzisionsmuster bei hoher Geschwindigkeit erfordern, wie Hochleistungsbauelementverarbeitung, SONOS-Speicher und mikrofluidische Chips. Die fortschrittlichen Eigenschaften und Fähigkeiten der Maschine machen sie zu einem zuverlässigen und effizienten Werkzeug für die Photolithographie.