Gebraucht SEMITOOL Raider ECD 310 #9236557 zu verkaufen

SEMITOOL Raider ECD 310 ist eine Photolackverarbeitungsanlage, die für die Verarbeitung von Hochdurchsatz-Präzisionslithographie entwickelt wurde. Es ist in der Lage, Wafer bis zu 8 Zoll in der Größe zu verarbeiten, mit einer Mindesteigenschaftsgröße von 10 Mikron. Das System nutzt für die Photoresist-Applikation ein neues elektrochemisches Abscheideverfahren (ECD). Dieses Verfahren wurde entwickelt, um den hohen Anforderungen der Halbleiterindustrie an konsistente Filmprofile, Auflösung und Prozesswiederholbarkeit gerecht zu werden. Dazu setzt der ECD 310 eine Kombination aus proprietären Resisttechnologien und präzisen elektrochemischen Abgabesystemen ein. Das Gerät verfügt über eine vollautomatische Waferstufe, die ein schnelles Be- und Entladen des Substrats ermöglicht. Kombiniert mit automatisierter Resistabgabe, Waferbelichtung und Waschmöglichkeiten für eine effiziente Lithographie-Verarbeitung. Das Resistprofil wird mit Präzisionsscheiben und Sprühköpfen optimiert, um die Gleichmäßigkeit über den Wafer zu gewährleisten und die Prozessvariabilität zu minimieren. Die Maschine enthält eine Widerstandshaube und eine Rauchabzugsfähigkeit, um die Eindämmung von Gefahrstoffen sicherzustellen. Die automatisierten Materialverwaltungsfunktionen stellen sicher, dass in jeder Anwendung die entsprechende Menge an Resist verwendet wird und der richtige Typ gewählt wird, während der integrierte RI-Detektor eine kontinuierliche Überwachung für Echtzeit-Feedback und Qualitätskontrolle ermöglicht. Das Tool ist Netzwerk für Fernzugriff und Überwachung aktiviert. Dies ermöglicht die Fernüberwachung von Prozessparametern und die Möglichkeit, Resisttankebenen von einem externen Ort aus zu steuern. Das Asset verfügt auch über hochauflösende Vision-Modell-Funktionalität für die In-situ-Wafer-Inspektion, so dass Fehler vor und nach der Verarbeitung analysiert werden können. HALBWERKZEUGANGREIFER ECD-310 ist ein hoher Durchfluss, Präzisionssteindruckverfahrenverarbeitungsanlage, hat vorgehabt, strengen Industriestandards zu entsprechen. Es kombiniert automatisierte Steuerungen, hochpräzise Bereitstellungstechnologien und Vision-System-Funktionalität, um eine konsistente, genaue und wiederholbare Resist-Anwendung für die fortschrittliche Lithographie-Verarbeitung auf einer Vielzahl von Substraten zu gewährleisten.