Gebraucht SEMITOOL Raider ECD 310 #9384185 zu verkaufen

SEMITOOL Raider ECD 310 ist eine Photolackstreifenausrüstung, die speziell für die hochpräzise Verarbeitung großer Substrate für die Herstellung und Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente entwickelt wurde. Es ist mit einer proprietären Dual-Ionen-Strahlquelle ausgestattet, die ein einzelnes Modul zur Elektronen- und Ionenstrahlabgabe verwendet. SEMITOOL RAIDER ECD-310 verfügt über ein patentiertes DFE-System (Double-Film Exposure) zur optimierten Musterdefinition. Die DFE-Technologie nutzt sowohl einen „weichen“ Elektronenstrahl als auch einen „harten“ Ionenstrahl, um eine einzige Photolackschicht zu belichten. Diese Kombination führt zu einer verbesserten Musterdefinition und reduziert die Anzahl der für die Musterübertragung benötigten Operationen. Der ECD 310 hat ein Sichtfeld (FOV), das Substrate bis 200 mm Durchmesser für Retikel bis 12 Zoll mit einer Genauigkeit von ± 6 Mikrometern abdeckt. Die Einheit ist konfigurierbar, um entweder für Wafer-Wäsche oder Infrarot-Strahlung-Asche verwendet werden. Die Maschine verfügt über ein integriertes Alarmüberwachungswerkzeug, das den Benutzer auf Änderungen der Betriebsparameter hinweist. Raider ECD 310 ist eine effiziente, zuverlässige und benutzerfreundliche Photolackverarbeitung, die verschiedene Komplexitäts- und Leistungsanforderungen in der modernen Halbleiterherstellung unterstützt. Es verfügt über eine umfassende Steuerungsschnittstelle für eine effiziente und genaue Verarbeitung, mit der Flexibilität, sowohl Voll- als auch Halbmaßstab-Produktionsabläufe zu verwalten. Auch kommt es mit mehreren Sicherheitsmerkmalen wie einem Dreifach-Kammer-Sicherheitsgehäuse, eingebauten Schilden und einem unabhängigen Auspuff. Darüber hinaus gewährleistet RAIDER ECD-310 eine hohe Genauigkeit kritischer Prozessparameter mit seiner automatisierten Funktion, die eine externe Steuerung, Überwachung und Protokollierung des prozessinternen OBIRs ermöglicht. Insgesamt wurde dieses Fotolackstreifenmodell entwickelt, um eine effiziente, zuverlässige und hochpräzise Verarbeitung von Substraten zu unterstützen.