Gebraucht SEMITOOL Raider ECD 312 #293807054 zu verkaufen

SEMITOOL Raider ECD 312 ist ein fortschrittliches Photoresist-System, das hochpräzise Photolithographieverfahren für eine Vielzahl von Anwendungen ermöglicht. Die Photolithographie ist ein wesentlicher Bestandteil der Halbleiterverarbeitung und beinhaltet die Übertragung eines Musters von einer Maske auf die Oberfläche eines Substrats mit licht- und lichtempfindlichen Chemikalien. SEMITOOL RAIDER ECD-312 bietet eine hocheffiziente, automatisierte Plattform für diesen Prozess. Raider ECD 312 ist entworfen, um eine Reihe von verschiedenen Materialien zu behandeln, wie Silizium, Saphir, Glas und Quarz. Es unterstützt eine Vielzahl von Wafergrößen, von 2-Zoll bis 8-Zoll-Durchmesser Wafer. Es ist auch in der Lage, empfindlichere Prozessschritte wie ultraviolette Belichtung, tiefe UV-Belichtung und thermische Verarbeitung zu handhaben. RAIDER ECD-312 verfügt über erweiterte Steuerungs- und Handhabungsfunktionen, so dass genaue und wiederholbare Muster erzeugt werden können. Es ist in der Lage, Bilder mit einer Auflösung von bis zu 8 Mikron abzubilden und über eine grafische Benutzeroberfläche (GUI) zu steuern. Es verfügt über einen integrierten Mikroprozessor, der zur Prozessüberwachung und Kalibrierung verwendet wird. Es ist mit einer Mehrzonen-Heizplatte ausgestattet, die eine präzise Temperaturregelung in jeder Zone ermöglicht, sowie eine als Multifokussierung bezeichnete Technik, die einen hochpräzisen Fokus bei unregelmäßigen Waferformen beibehält. SEMITOOL Raider ECD 312 enthält auch ein Fördersystem, das verwendet wird, um die Wafer durch jeden Schritt des Photolithographie-Prozesses zu bewegen. Es umfasst mehrere Kamerasysteme, die verwendet werden, um den Wafer in verschiedenen Phasen des Prozesses zu überwachen. Zur Reinigung des Photolacks von den Wafern ist auch eine automatisierte Reinigungsdüse enthalten. SEMITOOL RAIDER ECD-312 ist eines der fortschrittlichsten und zuverlässigsten verfügbaren Photolithographiesysteme und eignet sich ideal für die Herstellung komplexer Muster für Photovoltaik-Geräte, Flachbildschirme und andere hochauflösende Anwendungen. Die Kombination aus effizienter, automatisierter Handhabung und präzisen Abbildungsmöglichkeiten macht es zu einer großen Auswahl für eine Vielzahl von Halbleiterherstellungsprozessen.