Gebraucht SEMITOOL Raider #293600285 zu verkaufen

Name: SEMITOOL Raider
Brand: SEMITOOL
SKU: 293600285
Availability: InStock

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Foto Verwendet SEMITOOL Raider Zum Verkauf

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Hersteller

SEMITOOL

Modell

Raider

ID: 293600285

Wafergröße: 12"

Weinlese: 2008

Systems, 12" (8) Chambers Substrate: Si, 12" Chiller DHF Mix tank CO2 Bottle S2 Computer 502SE Controller Remote PPS MARATHON Standard Automation: Type: (2) FOUP WIP (PGV compatible) COAXIAL HT Robot STI Robot controller End effect controller: Edge grip Wet transfer edge grip FOUP ID: ASYST, P/N: 9750-2000-000 HERMOS RF Tag reader Vacuum source Wafer protrusion sensor Process module: CPC 1, 10, 12 Process: SRD / Prewet PTFE Spray chamber P/N: 271T0020-03 Rotor: Cantilever, N2 Wafer purge Bulk fill supply with filter, 5" IW Drain Spray bar nozzel, P/N: 341 T0011-05 CPC 2 Process: Ni plating Chamber, P/N: 271T0130-01 CFD III Ring, P/N: 213T1055-501 Anode, P/N: 110T0198-01, 111T0000-10 Plating PS, P/N: T16852-118 Wafer present sensor Mercury contact Wafer extraction (mechanical) Flow meter on chemical line Shield / Weir, P/N: 111T1204-511 CPC 3, 4, 9 Process: Solder plating (eutectic) Chamber, P/N: 271T0130-01 CFD III Ring, P/N: 213T1055-501 Plating PS, P/N: T16852-118 Wafer present sensor Mercury contact CPC 5, 6, 7, 8 Process: Solder plating (high lead) Chamber, P/N: 271T0130-01 CFD III Ring, P/N: 213T1055-501 Plating PS, P/N: T16852-118 Wafer present sensor Mercury contact Wafer extraction Flow meter on chemical line Shield / Weir, P/N: 111T1204-511 CPC 11 Process: Cu Plating Chamber, P/N: 271T0130-01 CFD III Ring, P/N: 213T1055-501 Anode, P/N: 111T1197-01 Plating PS, P/N: T16852-118 Wafer present sensor Mercury contact Wafer extraction Flow meter on chemical line Shield / Weir, P/N: 111T1204-511 Capacity: 48 L Style: Unsealed NPP Heat exchange coils Temperature: 50-55°C Filter, 10" Sensor: (5) Floats LEVITRONIX BPS 3 Pump WK AP50 Pump Supply: ARU / CDU / Bulk fill / Manual fill tube Sample Port CPC 2 Ni Plating solution Carbon polishing filter Conditioning electrodes pH Monitor Sight tube Power supply Tank 2: High lead solder Capacity: 120 L Style: Unsealed NPP Heat exchange coils Temperature: 25-35°C Filter, 10" Sensor: (5) Floats LEVITRONIX BPS 3 Pump WK AP50 Pump Supply: Bulk fill / CDU / Manual fill tube Sample Port CPC 5, 6, 7, 8 Chemical: High lead plating Solution Sight tube Tank 3: Eutectic solder Capacity: 120 L Style: Unsealed NPP Heat exchange coils Temperature: 25-35°C Filter, 10" Sensor: (5) Floats LEVITRONIX BPS 3 Pump WK AP50 Pump Supply: Bulk fill / CDU / Manual fill tube Sample port CPC 3, 4, 9 Chemical: Eutectic plating solution Sight tube Tank 4: Cu Capacity: 48 L Style: Unsealed NPP Heat exchange coils Temperature: 25°C Filter, 10" Sensor: (5) Floats LEVITRONIX BPS 3 Pump WK AP50 Pump Supply: ARU / CDU / Bulk fill / Manual fill tube Sample port CPC 11 Cu Plating solution Sight tube Drains: IW Eutectic Hi lead Ni Cu Process: Cu Ni Eutectic High lead plating Options: (3) Heater chillers AARU Dl Booster pump cabinet and Interface Power supply: 480 V, 4 Wire, 3 Phase 2008 vintage.

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SEMITOOL Raider ist eine Photoresist-Ausrüstung, die 2001 vom Halbleiterausrüster SEMITOOL ins Leben gerufen wurde. Das System verwendet eine Aufsprühbeschichtung, um eine Schicht aus Photolack auf Halbleiterscheiben für nachfolgende Strukturierungsprozesse abzuscheiden. Raider verfügt über mehrere computergesteuerte Komponenten, darunter einen Lastverschlusstransporter, einen Sprüharm und eine Partikelsteuereinheit. SEMITOOL Raider verarbeitet bis zu 50 Wafer pro Stunde und erzeugt gleichmäßige Resistprofile über die gesamte Waferoberfläche. Er entlädt Wafer aus einer Kassette, transportiert sie zum Sprüharm, legt die Resistschicht ab und transportiert sie zu einem Außenförderer. Der Sprüharm kann dünne (100-200nm) Schichten aus SU-8 Resist auftragen. Die Partikelsteuereinheit sorgt dafür, dass die Partikel den Photolack nicht verunreinigen und sorgt für eine gleichmäßige Beschichtung des Resists. Es überwacht die Sauerstoffkonzentration, Feuchtigkeit, Temperatur und Druck in der Sprühkammer sowie die Konzentration von Partikeln in der Umwelt. Raider hat auch eine Autofokus-Einheit, die es ermöglicht, den Fokus auf die gesamte Waferoberfläche konstant zu halten. SEMITOOL Raider verfügt über zahlreiche Sicherheitsmerkmale, die vor externen Faktoren wie statischem Stromaufbau und Abgas schützen. Jedes seiner Systeme kann individuell auf maximale Präzision kalibriert werden und der Sprüharm ist voll motorisiert für maximale Kontrolle und Genauigkeit. Raider ist eine modulare Maschine, die ihre Elektronik und Komponenten zeitlich aufrüsten kann. Sie ist so ausgebildet, dass sie Wafer mit Durchmessern von 1 bis 12 Zoll verarbeiten kann. SEMITOOL Raider ist ein zuverlässiges Werkzeug der Wahl für Photolackanwendungen in der Halbleiterindustrie. Es ist wartungsarm und kann große Chargen von Wafern routinemäßig verarbeiten, ohne dass eine übermäßige Überwachung erforderlich ist. Es erzeugt dünne, gleichmäßige Resistschichten und sorgt dafür, dass die Umwelt sauber und partikelfrei bleibt. Raider wurde unter Berücksichtigung der Benutzersicherheit gebaut und seine verschiedenen Sicherheitsmerkmale sorgen dafür, dass die Bediener jederzeit sicher bleiben.

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