Gebraucht SEMITOOL Raider #9018339 zu verkaufen
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ID: 9018339
Wafergröße: 6"
Weinlese: 2004
Wafer backside etcher, 6"
Configuration:
Process: backside and bevel etch/clean
Substrate: 6" Si with flats
Voltage: 380 V, 3 phase, 50/60 Hz, 5 wire
CE comp: yes
S2 comp: yes
Automation:
Type: 2 open cassette
Robot: STI single linear
End effector: edge grip
Pre-aligner: no
Cabinet:
Style: 2 chamber with WIP version 2
Material: PVC-C
Exhaust: bottom
Facilities: bottom
Fire supp: eng req (no external comp)
ULPA filters: standard (to cover both wafer handling area and chambers)
Process module:
CPC1/CPC2 backside layer etch
Chamber: 8" capsule
Rotor: 6" capsule I
DRVHD: capsule I
Auto: Raider L/R
MFC on N2 and IPA (top/bottom)
IPA vapor dry
Delivery systems:
Tank 1
Size: 20 L
Style: bottom draw
H/C: coils
Circ: recirc/reclaim
Filter: 5" 0.1 um
Level sensor: 3 floats
Pump: Levitronix BP-3 48 V
Supply: bulk fill
Delivery: CPC 1 & 2
Chem: dHF
Chemical trunk line delivered to bottom of CPC1/CPC2
SMTL transducer for all liquids
Drains: IPA, IW, HF
Options: (2) Affinity heater/chillers
Engineering required:
Cabinet
Elec pods
Automation
Process component integration
Electrical
Software
Plumbing layout
Gas flow monitoring and data logging
Robot interface
Manuals
Chiller/heater, 50 Hz, European
Chiller M75, 50 Hz, PD-2
2004 vintage.
SEMITOOL Raider Photoresist-Ausrüstung ist ein automatisiertes, Hochdurchsatz-Photolithographie-Werkzeug, das verwendet wird, um Merkmale auf einem Halbleiterbauelement zu mustern. Das System ist mit Präzisionsrobotik ausgestattet, die Halbleiterscheiben von einer Prozessstation zur anderen präzise pflücken und platzieren. Raider verfügt über ein Laser-Interferometer zur präzisen Wafer-Positionierung, eine Load-Lock-Einheit zur präzisen Temperatur- und Umweltreinigung und einen 0,5-Mikron-Coater/Entwickler zur präzisen konformen Verarbeitung. Die Photoresist-Beschichtungsstation von SEMITOOL Raider wurde entwickelt, um eine dünne Resistschicht auf den Wafer zu beschichten, um ihn für die Photolithographie vorzubereiten. Die Maschine bietet Resistbeschichtungsraten bis zu 6 Wafer pro Minute mit Genauigkeit und Auflösung bis zu 0,1 Mikron. Der beschichtete Wafer wird dann zur Photomaskenstation gebracht, wo ein Infrarot- oder Near-UV-Laser die gewünschten Muster auf der Photomaske beleuchtet. Dies ermöglicht die Beleuchtung sehr kleiner Muster oder kompletter Schaltungsentwürfe mit derselben Fotomaske. Die Scannerstation des Raiders ermöglicht die Programmierung eines bestimmten Abtastmusters für jeden Wafer. Dadurch wird sichergestellt, dass ein individuelles Merkmal oder eine komplette Schaltungsauslegung exakt auf den Wafer strukturiert wird. Die Resistmuster werden dann mit der Photoresist-Entwicklungsstation von SEMITOOL Raider auf den Wafer übertragen. Diese Station ist auch mit fortschrittlicher Temperatur- und Feuchtigkeitskontrolle ausgestattet, um einen konsistenten Prozess zu gewährleisten. Raider wurde entwickelt, um die Produktivität eines photolithographischen Prozesses zu verbessern und dabei wiederholbare Ergebnisse zu erhalten. Aufgrund der engen Prozesskontrolle und Wiederholbarkeit können Anwender zuverlässige, konsistente und kostengünstige Ergebnisse erwarten. Das Werkzeug ist auch sehr kompatibel mit Prozesschemien, die sich leicht mit verschiedenen Chemikalien und Materialien integrieren lassen. Alle diese Funktionen machen SEMITOOL Raider zu einer idealen Wahl für Anwender, die eine zuverlässige Photolithographie-Anlage zur Verarbeitung ihrer Halbleiterbauelemente suchen.
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