Gebraucht SEMITOOL / RHETECH EQ242S/PR #293628380 zu verkaufen

RHETECH EQ242S/PR ist eine hochmoderne Photolackverarbeitungsanlage, die konsistente und zuverlässige Lithographieergebnisse ermöglicht. Es ist mit einem fortschrittlichen E-Strahl-Lithographie-Tool und einem leistungsstarken UV-Laser ausgestattet, was es zu einer umfassenden Lösung für Lithographie-Anwendungen macht. Das Design ist für eine schnelle und wiederholbare Verarbeitung von Photoresists optimiert und gewährleistet überlegene Prozessergebnisse. Es ist in der Lage, eine breite Palette von Photoresists zu verarbeiten und ermöglicht eine schnelle Waferausrichtung für reduzierte Zykluszeiten. Das System besteht aus zwei Schlüsselkomponenten; eine Vakuumprozesskammer, die ein einzelnes E-Strahl-Lithographiewerkzeug in Kassettengröße und eine UV-Laserablationseinheit enthält. Die Maschine verfügt außerdem über ein Planetenscheibenausrichtwerkzeug, das eine präzise und wiederholbare Waferausrichtung ermöglicht. Das Design ist für die optimale Leistung des E-Strahl-Lithographiewerkzeugs optimiert, verkürzt die Bearbeitungszeit und sorgt für konsistente Prozessergebnisse. Das Asset umfasst einen integrierten Prozesscontroller und ein Datenerfassungsmodell. Dies ermöglicht eine präzise Steuerung von Prozessen und Prozessparametern sowie detaillierte Protokollierungsergebnisse. Zur Ausstattung gehört auch ein Wafer-Handling-System zum Be- und Entladen von Wafern sowie zur Umgebungsluftwäsche und Grundierung. Das Design ist reinraumkompatibel, mit abgedichteten Prozesskammern, die Verschmutzungen von außen verhindern. SEMITOOL EQ242S/PR ist eine ideale Photolackverarbeitungseinheit für viele Industrie- und Forschungsanwendungen. Die fortschrittlichen Prozesssteuerungs- und Datenerfassungssysteme sorgen für präzise und wiederholbare Prozessergebnisse und der modulare Aufbau ermöglicht eine einfache Integration in bestehende Prozessabläufe. Seine Fähigkeiten ermöglichen es, eine breite Palette von Photoresists unterzubringen, so dass es eine vielseitige und zuverlässige Lösung für eine Vielzahl von Photoresist-Verarbeitungsanforderungen.