Gebraucht SEMITOOL / RHETECH ST 270 #293594925 zu verkaufen

SEMITOOL/RHETECH ST 270 ist ein wichtiges Werkzeug für die Substratverarbeitungsindustrie. Es handelt sich um eine Photolackanlage, mit der strukturierte Schichten auf Halbleiterscheiben und anderen Substraten für Anwendungen wie mikroelektronische Bauelemente und die Herstellung mikrofluidischer Bauelemente erzeugt werden. Es hat drei Grundkomponenten: Einen Pellikel, einen Chrom- oder lichtempfindlichen Film und eine Steuereinheit. Das Pellikel dient als Fenster zum Bestrahlen des Substrats mit Licht und enthält eine Öffnung, die zur Begrenzung der Lichtintensität dient. Der chrom- oder lichtempfindliche Film ist ein lichtempfindliches Material, das auf das Substrat aufgesponnen wird. Bei Belichtung reagiert das lichtempfindliche Material und verändert seine chemische Bildung zu einem gewünschten Muster. Die Steuerung ermöglicht die Feinabstimmung der Bestrahlungsparameter. Das Photolacksystem RHETECH ST 270 verfügt über mehrere Funktionen zur Verbesserung der Prozesssteuerung. Es kann in einem zerstörungsfreien Modus betrieben werden, so dass mehrere Belichtungen und die Prüfung des Substrats, während es weiter verarbeitet wird. Zusätzlich ist eine Waferstufenerkennungseinheit zur Maximierung der Prozessgenauigkeit enthalten. Die Maschine ermöglicht eine genaue Ausrichtung des bestrahlten Bereichs auf das Substrat zur Erzielung komplexer Muster, die für die Geräteherstellung erforderlich sind. Seine hochauflösende dynamische Scan-Fähigkeit ermöglicht kleinere Funktionsgrößen und feinere Mustergenauigkeit. Darüber hinaus ermöglicht die Hochgeschwindigkeits-Scanfähigkeit des Werkzeugs kürzere Prozesszykluszeiten. SEMITOOL ST 270 bietet zudem optionale optische Filter und Mustererkennungssoftware als Teil seiner Fernbedienungsschnittstelle an. Auf diese Weise können Benutzer die Belichtungsparameter des Assets verfeinern und seine Parameter anpassen, um den Prozess zu optimieren. Es verfügt auch über eine in-situ Reinigungsoption, die vor der Wiederbelichtung des Substrats durchgeführt wird. Der Reinigungsprozess in situ reduziert die Defektivität auf dem Substrat erheblich. Insgesamt ist das Photolackmodell ST 270 die ideale Lösung für komplizierte Muster mit schnellem Durchsatz und hoher Reproduzierbarkeit. Es verfügt über eine Vielzahl von erweiterten Funktionen, mit denen Benutzer den Prozess für ihre spezifische Anwendung optimieren können. Die optischen Filter, die Fernbedienungsschnittstelle und die Reinigungsoption in situ bieten Anwendern die für hochpräzise Anwendungen erforderliche Prozessflexibilität und Robustheit.