Gebraucht SEMITOOL / RHETECH ST-870 #9265368 zu verkaufen

SEMITOOL / RHETECH ST-870
ID: 9265368
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1997
Spin Rinse Dryer (SRD), 6" 1997 vintage.
SEMITOOL/RHETECH ST-870 Photoresist Equipment verwendet patentierte und fortschrittliche chemische Entwicklungstechnologie, um eine präzise Strukturierung von Metall-, Polyimid- und Photoresistmaterialien zu ermöglichen. Das System besteht aus vier Modulen, die unabhängig oder in Kombination zur Erzeugung von Photolackmerkmalen verwendet werden können. Die Module enthalten einen Maske-Aligner, der eine präzisionsgemusterte Oberfläche auf Vakuumbasis und Mikrolinsen verwendet, um Photolackschichten freizulegen; der Mischer/Spreader, der bei der gleichmäßigen Ausgabe von Photolack auf das Substrat hilft; die Heizung, die eine schnelle Aushärtung für eine kontrollierte Kristallisation erleichtert, und die Refrel, die einen hohen Grad an Ätzen oder Entfernen von Photolackschichten erreichen kann. Der Mask Aligner ist ideal für Anwendungen, die eine präzise und wiederholbare Platzierung und Strukturierung der Fotolackschicht erfordern. Die Konstruktion des Geräts umfasst fortschrittliche strahlteilende optische Systeme, die zu einer großen, flachen Feldbelichtung mit gleichmäßiger Energieverteilung über die Substratoberfläche führen. Dadurch wird eine Genauigkeit auf ± 0,5 Mikrometer, ein Niederspannungsbetrieb bei 1,8 kV und ein großes, stabiles Belichtungsfeld von bis zu 1,5 x 1,5 Zoll gewährleistet. Der Mixer/Spreader bietet eine präzise Steuerung der Photoresist-Ausgabemenge und die Fähigkeit, Resistflüssigkeit für eine verbesserte Beschichtungsgleichförmigkeit zu konditionieren. Dies ermöglicht defektarme Photolackschichten für elektronische Anwendungen. Eine Vielzahl von Temperatur- und Rührrezepten stehen zur Verfügung, um verschiedene Aspekte von Entwicklungsprozessen anzupassen. Die Heizung ist für die schnelle thermische Aushärtung von Photolackschichten ausgelegt. Diese hochmoderne Heizungskonstruktion gewährleistet eine Temperaturstabilität von ± 0,2 Grad Celsius und eine Prozesssteuerung über die Substrattemperatur. Der Refrel ist ein wirksames Werkzeug zur Reinigung von Polymeroberflächen. Es bietet eine präzise Kontrolle über Ätzraten und -tiefen. Es verfügt über eine beheizte Prozesskammer, die 285 ° C erreichen kann, und ein Design, das volle Flexibilität für verschiedene Prozessschritte ermöglicht und hilft, den thermischen Schock des Substrats zu reduzieren. RHETECH ST-870 Photoresist Machine bietet eine Reihe von Möglichkeiten zur Erstellung reproduzierbarer Muster auf Substraten für elektrische, optoelektronische und mechanische Anwendungen. Das Tool bietet Herstellern Kosteneinsparungen, präzise Strukturierung und einheitliche Beschichtungen, Wiederholbarkeit bei der Herstellung verschiedener Komponenten und reduzierte Zykluszeiten.
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