Gebraucht SEMITOOL S27-S-3-1-ML-WP #9209043 zu verkaufen

SEMITOOL S27-S-3-1-ML-WP Photoresist Equipment ist ein High-End-konvektionsbasiertes Photoresist-System, das für präzise Mikrolithographieverfahren entwickelt wurde. Es ist für die Photolackbeschichtung und Verarbeitung von kleinen Substraten wie hochauflösenden Fotomasken für Halbleiter- und Mikroelektronik-Anwendungen vorgesehen. S27-S-3-1-ML-WP Photoresist Unit verfügt über eine 3-Achsen-Steuerung, die Präzision und wiederholbaren Betrieb bietet, sowie eine geräumige Substrat-Zugangskammer. Es ist mit einer fortschrittlichen, einfach zu bedienenden, benutzerfreundlichen Softwaremaschine ausgestattet und kommt mit einem bequemen Edelstahl-Speicherschrank. Das Werkzeug bietet polymere Substratverträglichkeit, die flüssige, trockene und rückgewinnbare Resiststoffe enthält. Diese Vielseitigkeit ermöglicht eine Vielzahl von Photolackprozessen, einschließlich Spin-Coating, Slot-Coating und Swab-Prozesse, die mit umfassender Rezeptbearbeitung und automatischer programmierbarer Wiederholbarkeit unterstützt werden. Darüber hinaus ermöglicht SEMITOOL S27-S-3-1-ML-WP Asset eine maximale Substrattemperaturregelung und bietet die gleichmäßigste Verteilung des Photolackmaterials im gesamten Substrat. S27-S-3-1-ML-WP Modell soll eine optimale Genauigkeit und Wiederholbarkeit der Prozessparameter erreichen. Die fortschrittliche Software und Temperaturregelung ermöglichen präzise Belichtungs- und Entwicklungszeiten. Darüber hinaus verfügt das Gerät über ein fortschrittliches Durchflussregelungssystem, das präzise und wiederholbare Drehzahlen und Drücke ermöglicht. SEMITOOL S27-S-3-1-ML-WP Photoresist Unit wurde entwickelt, um die sich entwickelnden Prozessanforderungen der heutigen Mikroelektronik- und Halbleiterindustrie zu erfüllen und Nutzern zuverlässige, effiziente Leistung zu bieten. Es verfügt über eine umfassende und integrierte Prozess- und Fehlerüberwachung sowie eine hochwertige eloxierte Aluminiumkonstruktion. Mit seinem raumeffizienten Design ist S27-S-3-1-ML-WP Photoresist Machine eine ideale Lösung für die raumbegrenzte Produktion und Laboreinstellung.