Gebraucht SEMITOOL SAT 20605 #293830238 zu verkaufen

SEMITOOL SAT 20605 ist eine hochmoderne Photolackverarbeitungsanlage, die entwickelt wurde, um eine präzise, zuverlässige und kostengünstige Lösung für die Verarbeitung von Halbleiterwafern und Substraten bereitzustellen. Das System wurde entwickelt, um Wafer durch eine Vielzahl von Techniken wie Spin Coating und Post Backen, Bildübertragung, Belichtung, nasse und trockene Ätzung, Galvanik und Strippen zu verarbeiten. Die gesamte Einheit ist in vier separaten Hauptmodulen für maximale Effizienz und Benutzerfreundlichkeit untergebracht. Das Herzstück der Maschine ist das Resist Processor Module, das verwendet wird, um den Wafern Photoresist in einem einheitlichen Muster zu liefern, sie dem Licht auszusetzen und den Resist nach der Verarbeitung zu entwickeln. Das Prozessormodul enthält vier Stationen und eine Reihe weiterer Werkzeuge und Komponenten, die für die Bearbeitung von Wafern erforderlich sind. Die erste Station besteht aus einem Spin Coater und zugehörigen Heizelementen, die verwendet werden, um den Fotolack gleichmäßig auf den Wafer zu verteilen und den Resist zu härten. Die zweite Station enthält einen Maske Aligner, der verwendet wird, um den Wafer Lichtmustern auszusetzen und eine Maske genau auf den Spin-beschichteten Wafer zu legen. Die dritte Station enthält einen Bilddetektor zur Überwachung und Einstellung der Lichtintensität sowie eine Substrat-Kochplatte für das Nachbelichtungsbacken. Die vierte Station enthält einen Kunststoffharzmanipulator und eine Reihe weiterer Komponenten zur Nassbearbeitung des Wafers. Nach der Fotowiderstandsbearbeitung und Bildgebung werden die Wafer zur Naßchemie und Galvanisierung des leitfähigen Films in das Streifenmodul bewegt. Die Außenseite des Moduls ähnelt dem Resist Processor, aber der Innenraum enthält eine Chemikaliensteuerung, um die Siliziumscheiben vor der Galvanisierung vorzureinigen und zu ätzen. Das Werkzeug enthält auch einstellbare Beschichtungsparameter wie Stromdichte und Verarmung. Das Streifenmodul enthält außerdem mehrere zusätzliche Nassverarbeitungswerkzeuge wie eine beheizte Spülstation, einen Sprühresiststripper, ein nicht chloriertes organisches Lösungsmittel und eine Ammoniumhydroxidbehandlung. Alle diese Werkzeuge sind so konzipiert, dass sie eine komplette Reihe von Reinigungs-, Ätz- und Galvanisierungsfunktionen bieten. Das dritte Modul im Asset ist das Vakuum-Modul, das die Möglichkeit bietet, empfindlichere Wafersubstrate wie Glas und Polyimid zu verarbeiten. Dieses Modul ist das fortschrittlichste im Modell, unter Verwendung einer Reihe von verschiedenen Techniken, einschließlich Vakuumkur, Bindungsliganden, Weichbacken, und Exposition. Das Modul enthält eine Vakuumkammer, eine Reihe weiterer Komponenten und Werkzeuge sowie ein Sichtfenster zur Inspektion der Substrate. Schließlich enthält das Modul das Steuermodul, das die Software und Hardware enthält, die zur Steuerung und Überwachung der Geräte erforderlich sind. Das Steuermodul umfasst drei separate Steuerungssysteme, mit denen Prozessstufen, Systemtemperaturen und Grenzwerte überwacht werden. Es enthält auch eine Reihe von Funktionen wie Datenprotokollierung, Wartungswarnungen, Rezepterstellung und -kontrolle und Alarmbenachrichtigung. Zusammenfassend ist die SAT 20605 Photoresist Unit so konzipiert, dass sie eine zuverlässige Lösung für die kostengünstige Bearbeitung von Wafern bietet. Es besteht aus vier Verbindungsmodulen mit jeweils eigenen Komponenten und Fähigkeiten und ist mit einem umfassenden Steuerungsmodul gekoppelt, um eine einheitliche und einfach zu bedienende Prozesssteuerungsmaschine bereitzustellen.