Gebraucht SEMITOOL Scepter #293807079 zu verkaufen

SEMITOOL Zepter ist ein Photoresist Equipment, das eine spezialisierte Maske verwendet, um nanoskalige Muster in einer Vielzahl von Materialien zu erstellen. Das System besteht aus einer Waferstufe, einer Vakuumquelle, einer Optik und Lichtquellen. Photomasken bestehen aus hochspezialisierten Materialien, so dass sie so gestaltet werden können, dass komplexe Muster entstehen. Die Waferstufe dient dazu, Photomaske und Wafer mit der nötigen Präzision korrekt auszurichten, um ein Bild zu erzeugen. Die Vakuumquelle gewährleistet die Kompatibilität mit dem Vakuumbedarf für die Waferbearbeitung. Darüber hinaus ist die Optik dazu ausgelegt, eine Steueroptik für die Abbildung der Fotomaske auf den Wafer bereitzustellen. Die Lichtquellen können je nach Art des verwendeten Photoresist variieren, wie Ultra High Vacuum (UHV) und Deep Ultraviolet (DUV) Laserquellen. Um die Fotomaske richtig abzubilden, wird eine Bildausrichteinheit verwendet. Dies ist eine hochpräzise Vorrichtung, die die Fotomaske drehen und bewegen kann, bis sie genau auf den Wafer ausgerichtet ist. Sobald die Fotomaske richtig ausgerichtet ist, kann der Belichtungsprozess beginnen. Bei dem Belichtungsverfahren handelt es sich um eine Linsenmaschine zum Fokussieren des Lichts auf die Fotomaske und auf den Wafer, wobei die Belichtung in Abhängigkeit von der Intensität der Lichtquelle und der Positionierung der Fotomaske variiert werden kann. Dieser Belichtungsprozess bewirkt, dass der Photolack verhärtet und Muster bildet. Nach Belichtung der Photomaske wird der Wafer entwickelt, um die nicht belichteten Teile des Photolacks zu entfernen. Dadurch entsteht das Muster auf den Wafer. Für den letzten Schritt ist der Wafer bereit, um Oberflächenverunreinigungen zu passivieren, und das Muster kann dann für eine Vielzahl von Anwendungen, wie z.B. die Bildung von Transistoren, Kondensatoren oder andere nanoskalige Bauelemente verwendet werden. Zepter ist eines der beliebtesten und zuverlässigsten Photolacksysteme aufgrund seiner präzisen Ausrichtungsmöglichkeiten, seiner Kompatibilität mit einer Vielzahl von Lichtquellen und seiner hohen Wiederholbarkeit. Es ist ein unschätzbares Werkzeug für diejenigen, die nanoskalige Muster für ihre verschiedenen Geräte und Anwendungen produzieren möchten.