Gebraucht SEMITOOL Scepter #293831473 zu verkaufen

SEMITOOL Zepter ist eine Photolackausrüstung, die für Anwendungen in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Dieses System dient zur Abscheidung von dünnen Schichten aus Photoresist, einem Material, das UV-Strahlung widersteht. Das ist eine Fortschritteinheit, die für den hohen Durchfluss konstruiert ist, den nasser Röntgenstrahl oder Elektronbalken direkt - Anwendungen schreiben. Zepter ist mit den hochwertigsten Materialien entworfen, mit einem Fokus auf thermische Stabilität, Gleichmäßigkeit und Partikelkontrolle. Es umfasst drei Behälter, die zusammen beheizt werden, jeweils mit einer eigenen unabhängigen Temperaturregelung, so dass die Reaktortemperatur genau überwacht und gesteuert werden kann. SEMITOOL Zepter verfügt auch über eine Vakuummaschine, die Ausgasungen reduzieren und die Gleichmäßigkeit fördern kann. Der Vorteil des Zepters liegt in seinen einzigartigen Eigenschaften wie seinen schnellen Pumpzykluszeiten, einer einstellbaren Spurweite, einem Rezirkulationshubkit zur Förderung der Gleichmäßigkeit entlang der Waferkanten, einem Deckelwerkzeug für verbesserte Kantenintegrität und seiner digitalen Leistungssteuerung auf acht Ebenen. SEMITOOL Zepter verbessert die Qualität der abgeschiedenen Schicht, so dass Abscheidungsraten von bis zu 15 Mikrometer/s und Gleichmäßigkeit von +/- 4 Mikrometer über einen 6-Zoll-Wafer. Darüber hinaus arbeitet es mit herkömmlichen Photomasken und hat eine Auflösungsfähigkeit von bis zu 0,6 Mikrometer und erzeugt Photoresistschichten von 0,5-2,0 Mikrometer Dicke. Die Anlage wird auch mit Edelstahl-Komponenten hergestellt, so dass es ideal für die Arbeit mit einer Vielzahl von Photoresist-Materialien. Zepter wird von vielen führenden Fabs weltweit verwendet und hat einen neuen Standard für die Photolackleistung gesetzt. Es bietet überlegene Konsistenz in Gleichmäßigkeit und Abscheidungsraten sowie die Fähigkeit, mit einer Vielzahl von Masken zu arbeiten. Das Modell bietet auch eine schnelle Zykluszeit und einfachen Zugang für die Wartung, so dass es eine ideale Wahl für viele verschiedene Arten von Photoresist-Abscheidungsprozessen.