Gebraucht SEMITOOL SRD-240S-6-1-E-ML #9366563 zu verkaufen

SEMITOOL SRD-240S-6-1-E-ML Photoresist Equipment ist ein automatisiertes Wafer-Streifen-, Resist- und Schälsystem, das Anbietern und Entwicklern von Halbleiter- und IC-Technologien die Fähigkeit bietet, effizient, präzise und kostengünstig Photoresist und Streifen für eine Vielzahl von Waferaufbereitungsanwendungen abzuscheiden. Dieses Gerät verwendet ein Streifen-und-Schälen (SP) -Modul, das eine bis sechs Wafer Kapazität hat. Der Wafer wird zunächst von einer Kassette oder Hülse unter Vorliegen eines Vakuumendoskops gehalten. Dann wird es in die Rahmenposition überführt, wo der Fotolack verzweifelt wird. Der Resist wird über eine integrierte R2-Maschine präzise parallel zu den Ebenen des Wafers auf die Waferoberfläche gerollt. Der Resist wird dann für einige Sekunden unangetastet gelassen, so dass der Resist in die Waferoberfläche eingesetzt werden kann. Diese Einstellung kann bei einer einstellbaren Temperatur von Umgebungstemperatur bis Temperatur über 200 Grad Celsius erfolgen. Die Temperatur ist auch nach Gerätetyp oder Art der Lithographie einstellbar. Das Werkzeug ist in der Lage, automatisch einen vollständigen Streifen des Photolacks aus den Wafern mit dem integrierten PEELER-Asset von SRD-240S-6-1-E-ML zu erstellen, das für die Verwendung zweier verschiedener Schältechnologien entwickelt wurde; Wasch- und Lösungsmittelbasis. Das lösemittelbasierte Verfahren wird für sublebende Ebenen und das waschmittelbasierte Verfahren für die Verbindungstechnik eingesetzt. Darüber hinaus ist das Modell mit einem eingebauten Trockner ausgelegt, mit dem Feuchtigkeit weiter entfernt werden kann. Der Trockner kann auch zur Vorkondensation der Umgebung verwendet werden, um die ideale Resistbedingung für die Entfernung zu erhalten. Die Anwender können auch die Prozessparameter wie Temperatur, Durchfluss und Rotationsgeschwindigkeit anpassen, um die gewünschten Ergebnisse zu erzielen. SEMITOOL SRD-240S-6-1-E-ML verfügt zudem über eine integrierte Fehlerinspektionsanlage, die es Anwendern ermöglicht, Waferfehler zu erkennen und zu messen, was bei der Steuerung der Prozessergebnisse sehr wichtig ist. Darüber hinaus verfügt das System über einen Echtzeit-Monitor der Prozessparameter, um sicherzustellen, dass der Prozess optimal ausgeführt wird. Insgesamt ist SRD-240S-6-1-E-ML eine hervorragende Photolackeinheit für Hersteller von Halbleitern und IC-Technologien. Diese Maschine ist effizient, präzise, kostengünstig und leicht anpassbar, um die Bedürfnisse der verschiedenen Arten von Prozessen anzupassen. Dieses Tool sorgt dafür, dass Anwender die besten, qualitativ hochwertigsten Ergebnisse in ihrer Waferaufbereitungsanwendung erhalten.