Gebraucht SEMITOOL SRD-470 #293642733 zu verkaufen

SEMITOOL SRD-470
ID: 293642733
Spin Rinse Dryers (SRD).
SEMITOOL SRD-470 ist eine branchenführende Photoresist-Ausrüstung, die hochmoderne Performance für Belichtung, Entwicklung und saubere Prozesse verschiedener Halbleiterwafer bietet. Mit einer Kombination aus Reservoirbädern und leistungsstarken Pumpen ist SRD-470 in der Lage, kleine Mengen an Entwickler-, Nachspül-, Photoresist- und DI-Wasser für den Einsatz in Produktionsprozessen präzise und präzise zu liefern. Ein automatisiertes Waschsystem verstärkt die Leistung des Geräts weiter und ermöglicht eine genaue chemische Lieferung und Waferreinigung. SEMITOOL SRD-470 ist in der Lage, mit einer Vielzahl von Wafergeometrien, Größen und Materialien zu arbeiten, von dünnen Mikroschaltungen bis hin zu großen, komplexen Chips. Es umfasst unabhängige Spülbäder mit einer einzigen Düse für eine gleichmäßige Spülabdeckung, während seine einzigartigen Vormischimpulse Spritzen und Kopfraumluftstrom beseitigen, um die Gleichmäßigkeit der Spülabgabe zu erhöhen. Darüber hinaus verfügt SRD-470 über eine intelligente Vision-Maschine, die Wafer Position und Bewegung verfolgt, was sowohl den Waferdurchsatz als auch die Genauigkeit erhöht. SEMITOOL SRD-470 bietet auch eine komplette Reihe von punktgenauen Kontrollmechanismen, die hochgenaue Parameter wie Temperatur, chemische Konzentration, Durchflussmenge und andere Qualitätskontrollfunktionen bieten, um eine präzise Waferproduktion zu gewährleisten. Der integrierte zyklische Timer und die Archivierung von Timing-Profilen ermöglichen eine verbesserte Prozesswiederholbarkeit. Eine Vielzahl zusätzlicher Funktionen wie Installationstemperaturalarm, Wafer-Stau-Detektor, mehrfache IO-Reaktion mit automatischer Reinigung, zyklisches Fußventil, thermischer Unwuchtschutz und Endwaferspülung sorgen für hervorragende Gesamtsicherheit. Für schnelles, effizientes Arbeiten und beispiellose Genauigkeit machen SRD-470 und seine verschiedenen Eigenschaften es zum idealen Fotolackierwerkzeug für Halbleiterwaferbearbeitungsanwendungen.
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