Gebraucht SEMITOOL SRD-8300S #9272599 zu verkaufen

SEMITOOL SRD-8300S
ID: 9272599
Spin Rinse Dryer (SRD) Dual stack.
SEMITOOL SRD-8300S ist eine Photoresist-Ausrüstung für die Massenproduktion von ultrafeinen Mikrogeräten. Es ist ein fortschrittliches, effizientes und hochzuverlässiges System für die Waferbearbeitung. Es weist eine integrierte, hybride Ausführung mit einer Einklappkammer für die Resistbearbeitung, der Backplatte, der Heizplatte, der Sprühdüse, der Vor-/Vorbackeinheit und gegebenenfalls einer Nassbank auf. SRD-8300S verwendet eine Wafer-untere Prozesskassette, um eine korrekte Ausrichtung von Wafer und Substrat während des gesamten Prozesses sicherzustellen. Es wird von einem leistungsstarken Luftlagermotor und einer Vakuumspindel für eine sichere Ausrichtung angetrieben. Das Gerät ist außerdem mit einer automatisierten Wafer-Handhabungsmaschine und einem Roboterarm für einfaches Be- und Entladen von Wafern ausgestattet. SEMITOOL SRD-8300S bietet neue Technologie für saubere, einheitliche und präzise Photolackanwendungen. Es verfügt über ein neues 5-Zoll-Quarz-beschichtetes Fenster für einen defektarmen Sprühmodus und eine neue Micro-Fine-Bildlinse mit wählbaren Anschlüssen für Luftzerstäubungstrocknungsteilchen. Es verfügt über eine vom Benutzer auswählbare Ausführungsrahmen-Option für die Prozessanpassung und andere Funktionen umfassen einen manuellen/automatischen Modusschalter und ein Selbstdiagnosetool. Die Anlage verfügt außerdem über einen leistungsstarken Controller zur Überwachung der Temperatur und der Bedingungen, um die Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit des Prozesses sicherzustellen. Es verfügt über eine Echtzeit-Anzeige kritischer Parameter und einen seriellen Standardport RS-232 für die Vernetzung mit einem PC oder anderen proprietären Automatisierungsgeräten. Es verfügt auch über eine einzigartige Düsen mit zwei Richtungen, die ein präzises, gleichmäßiges Sprühstrahlen ermöglichen. SRD-8300S ist ein zuverlässiges und effizientes Photolackmodell für die fortschrittliche Waferbearbeitung. Mit seinem Hochleistungs-Luftlagermotor, dem quarzbeschichteten Fenster und der Micro-Fine-Bildlinse bietet es eine beispiellose Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit. Darüber hinaus überwachen seine automatisierte Wafer-Handhabung und Regler Temperatur und Bedingungen auf Gleichmäßigkeit im Prozess. Darüber hinaus ist es anwenderwählbare Laufrahmen Option machen die Ausrüstung eine ideale Wahl für Photoresist Anwendung und Massenproduktion von ultrafeinen Mikrodevices.
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