Gebraucht SEMITOOL SRD-840S-1-1-E-ML #9279229 zu verkaufen

SEMITOOL SRD-840S-1-1-E-ML
ID: 9279229
Linser dryer.
SEMITOOL SRD-840S-1-1-E-ML Photoresist Equipment ist ein modernes Waferbearbeitungssystem, das auf die Anforderungen der fortschrittlichen Chipherstellung zugeschnitten ist. Das Herzstück der Einheit ist die proprietäre SRD-840S-1-1-E-ML Kammer, die entworfen ist, um Gleichmäßigkeit der Abgabe und Musterung von Photolack von Chip zu Chip und von der Form zu sterben. Die Maschine ermöglicht es dem Anwender, Wafer schnell und präzise zu bearbeiten. Das Tool ist in der Lage, bis zu acht gleichzeitige Prozesse zu jeder Zeit zu hosten, sowohl für nasse Photoresist Dispense und Musterung Fähigkeiten. Es verfügt auch über einen Prozessfluss-Controller, mit dem Benutzer Prozesse nach Bedarf hinzufügen und subtrahieren können. Das Asset verfügt auch über ein hochauflösendes bildgebendes Teilsystem, um eine schnelle und genaue Bestimmung der Strukturierung und Gleichmäßigkeit jeder Charge von Wafern zu ermöglichen. SEMITOOL SRD-840S-1-1-E-ML verfügt über einen einzigartigen Temperaturregelbereich für höhere Schränke, der dazu beiträgt, die Backzeit des Photolacks zu reduzieren und eine ausgezeichnete Mustergenauigkeit beizubehalten. Das Modell verfügt auch über eine Flüssigkeitsstandserfassungseinrichtung, die Verunreinigungen verhindert und es dem Benutzer ermöglicht, die Verwendung von Lösungsmitteln zu verfolgen. Es umfasst auch innovative Technologien wie iMAP (Integrated Movement Accuracy Principle), die die Aufrechterhaltung der exakten Genauigkeit und die Beseitigung von Vibrationen während des Betriebs unterstützen. Dieses Photoresist-System verwendet weiterhin ILS (Intelligent Laser Source), um Hochgeschwindigkeits-Schreibprozesse, deterministische Musterung mit scharfen Kanten und ohne Overlay-Fehler und eine erweiterte Bibliothek für Rezepte und Muster bereitzustellen. Das Gerät kommt auch mit eingebauten Reinraum Bewegungssteuerung und Ereignissteuerung, die dazu beitragen, Wartungszeit und Zeit im Reinraum für die Betreiber zu reduzieren. Darüber hinaus umfasst SRD-840S-1-1-E-ML bewährte Vakuumtechnologien und chemische Managementsysteme, die beide die Betriebszeit erhöhen und gleichzeitig die Betriebskosten senken. Insgesamt wurde SEMITOOL SRD-840S-1-1-E-ML Photoresist Machine entwickelt, um Chipherstellungsoperatoren dabei zu unterstützen, die Verarbeitungszeit zu reduzieren, die Genauigkeit der Photoresist-Musterung zu verbessern und die Zykluszeit zu reduzieren. Die leistungsstarken Funktionen und Funktionen dieses Tools sind ein wesentlicher Bestandteil der Halbleiterverarbeitung im heutigen Markt für fortschrittliche Chipherstellung geworden.
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