Gebraucht SEMITOOL SRD 880 #9248598 zu verkaufen

SEMITOOL SRD 880
ID: 9248598
Wafergröße: 8"
Spin Rinse Dryer (SRD), 8".
SEMITOOL SRD 880 Photoresist Equipment ist ein vollständig integriertes Photolithographiesystem, das für die Prozesssteuerung bei der Verarbeitung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente entwickelt wurde. Das Gerät wurde entwickelt und gebaut, um die höchsten Anforderungen an Präzision, Wiederholbarkeit und Zuverlässigkeit in der Halbleiterfotoresistverarbeitung zu erfüllen. Die Maschine umfasst eine Kammer mit einem einzigartigen, zweitürigen Roll-In-Design, das einen einfachen Zugang zum Innenraum für Wartung und Kammerservice bietet. Die Prozesskammer verfügt über ein integriertes Spin/Spray-Werkzeug, mehrere Trennventile, einen automatisierten Verschlussregler, zwei niveauausgeglichene und verschmutzungsfreie Flächen und eine motorisierte Lastschleuse. Die Anlage verfügt außerdem über ein super sauberes, HEPA-gefiltertes Abgasmodell sowie einen unabhängigen rezeptbasierten Prozesscontroller, der sowohl den Ertrag als auch den Durchsatz maximiert. Die Fotolackverarbeitung erfolgt in der einzigartig gestalteten Rollkammer SRD 880 mit integrierter Spin-Spray-Funktion. Dadurch ist es möglich, mehrere Wafer in einer einzigen Charge zu spinnen und zu sprühen, ohne den Durchsatz zu beeinträchtigen. Die Kammer verfügt auch über eine einzigartige Trennventilausrüstung, die die Prozesskammer frei von Verunreinigungen hält. Mit zwei ebenen und kontaminatfreien Oberflächen sorgt das System dafür, dass jeder Wafer bei gleicher Exposition bearbeitet wird. Der automatisierte Verschlussregler ist so konzipiert, dass er eine präzise Steuerung der Waferbelichtung ermöglicht. Es ist auch in der Lage, genaue und wiederholbare Timing der Wafer-Belichtung durchzuführen. Der Verschlussregler arbeitet mit dem Prozessregler zusammen, um eine hohe Prozesssteuerung und Effizienz zu gewährleisten. Der Prozessregler ist eine rezeptbasierte Einheit, die eine schnelle und genaue Programmierung der Photolackverarbeitung ermöglicht. Es wurde entwickelt, um konsistente Ergebnisse für jeden Wafer zu liefern, auch wenn sich die Umwelt- und Verarbeitungsbedingungen ändern. Der Prozesscontroller ist voll programmierbar und kann für mehrere Prozesse und Rezepte eingerichtet werden. Dadurch können sowohl hohe Ausbeuten als auch hohe Durchsätze erzielt werden. SEMITOOL SRD 880 Photoresist Machine bietet präzise Steuerung und zuverlässige Leistung für fortschrittliche Photolithographie-Prozesse. Mit seinem integrierten Spin/Spray-Werkzeug, mehreren Trennventilen, automatisiertem Verschlussregler, zwei stufenausgeglichenen und kontaminatfreien Oberflächen und rezeptbasiertem Prozessregler; Die Anlage hilft dabei, die Erträge bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen zu verbessern und gleichzeitig Kosten und Zeit im Photolithographie-Prozess zu reduzieren.
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