Gebraucht SEMITOOL SRD #9213261 zu verkaufen

SEMITOOL SRD ist eine Photoresist-Ausrüstung, die hauptsächlich für den Einsatz in der Halbleiterprüfung, -herstellung und -reparatur entwickelt wurde. Es bietet präzise, schnelle Verarbeitung von dicken und dünnen Fotolackfilmen auf integrierten Schaltkreissubstraten. Das System kann für eine Vielzahl von Anwendungen in Halbleiterprozessen eingesetzt werden, einschließlich Mustern, Ätzen, Abscheiden, Lithographie und Elektronenstrahlschreiben. SRD ist eine vollautomatische Einheit mit einem Vier-Achsen-Design, einschließlich Waferlift, Ladekammer, Rotationsbasis und Sekundärkammer. Zur Optimierung der lithographischen Prozessergebnisse ist die Maschine mit einer mehrlagigen naßchemischen Prozessstation ausgestattet. Es kommt mit einer optionalen hochauflösenden Hochgeschwindigkeits-Videokamera, die zur Inspektion und Einstellung von Musterpositionen und Abmessungen verwendet werden kann. Die Ladekammer von SEMITOOL SRD arbeitet in einem Roboterwerkzeug, das Wafer schnell ohne unerwünschte Luftverschmutzung überträgt. Die Hebebühne fasst bis zu fünfzig Wafer mit einer Reihe von Optionen für ein- oder doppelseitiges Mustern. Zusätzlich ist SRD mit einer Bordkühlung (bis zu 100kPa) ausgestattet, um Waferoberflächen gleichmäßig zu kühlen. Dies garantiert reproduzierbare Eigenschaften auch bei großen Funktionsgrößen. Die Modellprozesskammer von SEMITOOL SRD besteht aus Edelstahl und bietet hervorragende Wiederholbarkeit und Reproduzierbarkeit. Sein großer Innenraum ist mit einer Innenhöhe von 500 mm konzipiert, die eine Vielzahl von Größen von Waferbühnen aufnehmen kann. Sein Vakuumdruck kann auf 0,0005 mbar abgestimmt werden. SRD verfügt auch über eine Standard-Wafer-Rotationsstation für bis zu 100 U/min. Darüber hinaus umfasst SEMITOOL SRD eine Multipositions-Naßchemiestation, die für die Durchführung lithographischer Prozesse wie Nassätzen und Trockenätzen unerlässlich ist. Das Gerät umfasst eine integrierte RT-Rezirkulationseinrichtung zur Heizung und Kühlung des Prozessmoduls. Es enthält auch mehrere zusätzliche Komponenten wie Duschköpfe, Plasmaätzer, Sputterabscheidungsmodule und andere Reinigungslabore. Die neueste Version von SRD ist ein modernes Halbleiter-Wafer-Prozesssystem, das Präzision und Dienstprogramm in einem Paket kombiniert. Es wurde entwickelt, um eine hochintensive UV-Lichtquelle, eine hochauflösende Probenabbildungseinheit, eine umfassende Auswahl an Prozessmodulen und Zugriff auf die meisten Prozesschemie zu verwenden. Die Maschine ist leistungsstark genug, um Tausende von Wafern pro Stunde zu verarbeiten und Daten sicher zu speichern, sodass Benutzer ihren Workflow rationalisieren können.