Gebraucht SEMITOOL SRD #9292751 zu verkaufen

SEMITOOL SRD (Spin Rinse Dryer) ist eine automatisierte Waferbearbeitungsanlage, die zum Entfernen und Ersetzen von Photoresist verwendet wird. Photoresist ist ein lichtempfindliches Material, das bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet wird, meist nach der Lithographie. Das SRD-System wurde entwickelt, um die Prozesseffizienz und den Ertrag zu verbessern und gleichzeitig die Verarbeitungs- und Zykluszeiten zu verringern. SEMITOOL SRD-Einheit besteht aus vier verschiedenen Teilen: der Spin-Spülstation, der Trocknerstation, der Photolackstation und der Substrat-Staging-Station. Die Schleuderstation legt den Wafer in ein Schleuderbad und rührt ihn an, um den Photolack zu entfernen. Die Trocknerstation verwendet eine Kombination aus Wärme- und Gasdruck, um Restflüssigkeit schnell und sicher von der Waferoberfläche zu entfernen. Mit der Photolackstation wird der frische Photolack für den nächsten Verfahrensschritt aufgebracht. Schließlich ist die Substratstufenstation eine geschlossene Umgebung zum Markieren, Übertragen und Speichern der Substrate während des Prozesses. SRD-Maschine ist hoch einstellbar und anpassungsfähig, in der Lage, verschiedene Substratgrößen und -typen zu verarbeiten, einschließlich Silizium und Galliumarsenid. Darüber hinaus ist das SEMITOOL SRD Tool so konzipiert, dass es in andere Systeme im Werk integriert werden kann, sodass sich die Komponenten so effizient wie möglich durch den gesamten Fertigungsprozess bewegen können. Die Automatisierung des gesamten Prozesses, einschließlich des Spülvorgangs und des Trockners, ermöglicht es, Wafer schnell durch den Prozess zu bewegen und gleichzeitig qualitativ hochwertige Ergebnisse zu liefern. SRD Asset ist einfach zu bedienen und bietet eine breite Palette von Funktionen, um den Prozess anzupassen. SEMITOOL SRD kann beispielsweise auf spezifische Produktanforderungen und Prozesseinstellungen wie Waferdurchmesser, Geschwindigkeit, Drehwinkel, Sprühtypen usw. zugeschnitten werden, sodass Anwender den Prozess für ihre jeweilige Anwendung optimieren können. Die Automatisierung von SRD reduziert zudem die Anforderungen an die Bedienereinbindung und ermöglicht die Integration des Modells in andere Systeme im Werk. Abschließend ist SEMITOOL SRD eine vielseitige, automatisierte Photoresist-Ausrüstung, die zur Verbesserung der Prozesseffizienz und -ausbeute bei gleichzeitiger Verringerung der Zyklus- und Prozesszeiten entwickelt wurde. Es bietet eine Reihe von Funktionen, die es Anwendern ermöglichen, den Prozess für ihre jeweilige Anwendung anzupassen und leicht in bestehende Wafer-Verarbeitungssysteme integriert werden können.