Gebraucht SEMITOOL SRD #9399678 zu verkaufen

HALBWERKZEUG SRD (Drehung Widerstehen Entwickler), ist ein drehungsangewandter, photowidersteht Ausrüstung für den Gebrauch in Halbleiteroblatenverarbeitungsanwendungen. Es ist für die hochdichte, hochpräzise Verarbeitung von integrierten Schaltungen (ICs) konzipiert, die in einer Vielzahl von elektronischen Komponenten verwendet werden. Dieses System ermöglicht eine schnelle, genaue und zuverlässige Herstellung von ultrapräzisen Merkmalen und Mustern auf Wafern. SRD verwendet fortschrittliche Verarbeitungstechniken und ist die fortschrittlichste Photolackeinheit, die es gibt. Es verwendet eine Spinnstation, die den Wafer mit hoher Geschwindigkeit dreht und ihn mit einer rotierenden Bürste kombiniert, um eine gleichmäßige Beschichtung des Photolacks auf dem Wafer bereitzustellen. Dieses Verfahren ermöglicht eine äußerst genaue Resistentwicklung über den gesamten Wafer. SEMITOOL SRD Maschine ist für die Verarbeitung von ultrapräzisen Funktionen und Mustern, wie Dual-Musterung, feine Linie Lithographie und Multi-Level-Musterung. Es verfügt auch über eine automatisierte Resist Lieferung Funktion, die Resist Anwendung und Entwicklung vereinfacht. Diese Funktion hilft, die gesamte Bearbeitungszeit zu reduzieren, ohne auf Genauigkeit oder Präzision zu verzichten. Zusätzlich nutzt das Tool ein Tracking-Asset, das sicherstellt, dass der Wafer unter optimalen Bedingungen bearbeitet wird, um die gewünschten Merkmals- und Musteranforderungen zu erfüllen. Das Modell ist zudem sehr flexibel und bietet einfachen Zugriff auf eine Vielzahl von Einstellungen. Auf diese Weise können Anwender die Einstellungen auf ihre spezifischen Bedürfnisse abstimmen und so zuverlässig Wafer höchster Qualität herstellen. Darüber hinaus bietet es Unterstützung für verschiedene Photo-Resist-Formulierungen, so dass Benutzer ihre bevorzugte Formulierung wählen können, ohne die Verarbeitungsgenauigkeit und Präzision zu beeinträchtigen. Insgesamt ist SRD-Geräte ein leistungsfähiges und zuverlässiges Photolacksystem, mit dem Benutzer hochgenaue Merkmale und Muster auf ihren Wafern herstellen können. Die fortschrittlichen Verarbeitungstechniken und automatisierten Resistlieferfunktionen des Geräts reduzieren die Verarbeitungszeit erheblich und sorgen für gleichbleibend hochwertige Ergebnisse. Darüber hinaus bietet es einfachen Zugriff auf eine breite Palette von Einstellungen und Kompatibilität mit verschiedenen Foto-Resist-Formulierungen, so dass Benutzer ihre gewünschten Ergebnisse erzielen können.