Gebraucht SEMITOOL SST-202A #9265775 zu verkaufen

SEMITOOL SST-202A ist eine Photoresist-Ausrüstung für Präzisionsmuster in Lithographieanwendungen. Das System bietet eine breite Palette von Prozesslösungen, die eine effiziente und genaue Strukturierung einer Vielzahl von Substraten ermöglichen. SST-202A besteht aus einer Lithographiespur zur Herstellung von Strukturen auf Substraten mit hoher Treue, einem Automated Unit Controller (ASC) zur Leistungsregelung und einem Spin Coater zur präzisen Anwendung von Photoresist. SEMITOOL SST-202A enthält außerdem einen optionalen Plasmaascher, eine Belichtungseinheit und eine Lift-Off-Einheit zur weiteren Steuerung des Musterprozesses. SST-202A ist in der Lage, feste Substrate mit einem Durchmesser von bis zu 8 Zoll sowie verdünnte Substrate wie MEMS, OLEDs, III-V-Compound und Stromversorgungsgeräte zu verarbeiten. Die Maschine verwendet einen Filmdickenmonitor, um eine gleichmäßige Photolackbeschichtung während der Spinnbeschichtung zu gewährleisten. Der Photolack wird dann zur Strukturierung mit UV-Licht belichtet. Das ASC von SEMITOOL SST-202A verfügt über erweiterte Funktionen, um Prozesse in Echtzeit zu steuern. Es verfügt über ein Datenlogging-Tool zur Verfolgung von Prozessparametern sowie schrittweise Anleitungen für maximale Effizienz. Der ASC ermöglicht auch die automatische Kalibrierung von Belichtungsenergien für eine Vielzahl von Photoresists und Substraten. Der optionale Plasmaascher ermöglicht eine effiziente Entfernung von Photoresistresten und anderen Verunreinigungen aus dem strukturierten Substrat. Die Asche verwendet eine HF-Quelle, um ein Plasma in einer Vakuumkammer zu erzeugen, was zu einem gleichmäßigen Ätzprofil über das Substrat führt. Die optionale UV-Belichtungseinheit sorgt für eine präzise Belichtung des Musters auf dem Substrat. Das Gerät verfügt über eine Lampe mit variabler Frequenz und bietet einstellbare Belichtungszeiten von 10 ms bis 10 Sekunden. Die optionale Abhebeeinheit kann zur Entfernung des Photolacks vom Substrat nach erfolgter Strukturierung verwendet werden. Zum Abheben des Photolacks mit minimaler Beschädigung des Substrats wird eine beheizte Platte mit Inertgaszufuhr verwendet. Insgesamt bietet SST-202A Photoresist Asset eine einzige Plattform für die Lithographie-Verarbeitung einer Vielzahl von Substraten mit hoher Genauigkeit und Wiederholbarkeit. Das Modell ist mit fortschrittlichen Funktionen ausgestattet, um eine effiziente und präzise Strukturierung von Substraten für eine Vielzahl von Anwendungen zu gewährleisten.